特許
J-GLOBAL ID：200903094584792574
黒色レジストパターンの形成方法およびカラーフィルターの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡田 数彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-255931
公開番号（公開出願番号）：特開平10-239863
出願日： 1997年09月04日
公開日（公表日）： 1998年09月11日
要約：
【要約】【課題】白欠陥を惹起させることなくパターン非形成面における汚れ(地汚れ)を高度に除去し得る様に改良された黒色レジストパターンの形成方法および当該黒色レジストパターン(ブラックマトリックス)を利用したカラーフィルターの製造方法を提供する。【解決手段】黒色材料が分散された光重合性組成物を透明基板上に塗布した後、加熱乾燥、画像露光、現像および熱硬化の各処理を行ってブラックマトリックスを形成し、次いで、100〜250°Cの加熱条件下、波長175nm以下の紫外線で黒色レジストパターン形成面を処理する。そして、上記のブラックマトリックス形成面に、赤、緑、青の材料が各々分散された各光重合性組成物を塗布し、加熱乾燥、画像露光、現像および熱硬化の各処理を行って各色の画素画像を順次に形成する。
請求項（抜粋）：
黒色材料が分散された光重合性組成物を透明基板上に塗布した後、加熱乾燥、画像露光、現像および熱硬化の各処理を行って黒色レジストパターンを形成し、次いで、100〜250°Cの加熱条件下、波長175nm以下の紫外線で黒色レジストパターン形成面を処理することを特徴とする黒色レジストパターンの形成方法。
IPC (4件)：
G03F 7/40 521
, G03F 7/40 501
, G02B 5/20 101
, G03F 7/004 505
G03F 7/40 521
, G03F 7/40 501
, G02B 5/20 101
, G03F 7/004 505
