特許
J-GLOBAL ID:200903094668799400

自動合成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  田崎 豪治 ,  西山 雅也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-340894
公開番号(公開出願番号):特開2005-106658
出願日: 2003年09月30日
公開日(公表日): 2005年04月21日
要約:
【課題】 ホットセル内での微粒子の放出を低減し、安価でより信頼性の高い標識薬剤自動合成装置を提供する。【解決手段】 鉛で囲まれかつクリーンルーム仕様のホットセル内に、少なくとも反応容器と、該反応容器の熱交換手段、流体圧制御手段および弁手段を含む制御手段とを設けた標識薬剤の自動合成装置において、該制御手段から排出されるクリーン度の低いガスを排気ダクトに直接排気するように構成される。加熱手段及び冷却手段の経路中に熱媒体のガスをろ過するためのフィルターを設け、該ガスはホットセル内に放出する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
鉛で囲まれかつクリーンなホットセル内に、少なくとも反応容器と、該反応容器の熱交換手段、流体圧制御手段および弁手段を含む制御手段とを設けた標識薬剤の自動合成装置において、該制御手段から排出されるクリーン度の低いガスを排気ダクトに直接排気するように構成してなることを特徴とする標識薬剤自動合成装置。
IPC (2件):
G01T1/161 ,  G21H5/02
FI (2件):
G01T1/161 D ,  G21H5/02 C
Fターム (7件):
2G088EE01 ,  2G088EE02 ,  2G088FF07 ,  2G088HH10 ,  4C085HH20 ,  4C085KA30 ,  4C085KB37
引用特許:
審査官引用 (2件)

前のページに戻る