特許
J-GLOBAL ID：200903094690781875
パターン寸法補正装置及びパターン寸法補正方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-322899
公開番号（公開出願番号）：特開2004-126486
出願日： 2002年11月06日
公開日（公表日）： 2004年04月22日
要約：
【課題】リソグラフィーにおいて露光されるパターンに発生する寸法変動を定量的に見積もり、これに基づいてパターン寸法を容易且つ正確に補正する。【解決手段】テストパターンを有する試験用フォトマスク1と、この試験用フォトマスク1を用いて、テストパターンにおける寸法変動を距離の関数として開口率との関係で定量化する定量化手段2と、複数の実デバイスパターンを有する露光領域を複数の補正領域に分割し、補正領域ごとに開口率を算出する開口率算出手段3と、開口率算出手段3で算出された開口率を試験用フォトマスク1を用いた定量化の結果に入力して、実デバイスパターンの寸法変動を補正領域ごとに算出し、これに基づき実デバイスパターンの設計データを補正するデータ補正手段4と、近接効果を補正する近接効果補正手段5とから補正装置が構成される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
フォトリソグラフィーにおいて形成する実デバイスパターンに、その周辺に存する光透過領域の開口率に依存して発生する寸法変動を補正するパターン寸法補正装置であって、
テストパターンを有する試験用フォトマスクと、
前記試験用フォトマスクを用いて、前記テストパターンにおける前記寸法変動を距離の関数として前記開口率との関係で定量化する定量化手段と、
複数の前記実デバイスパターンを有する露光領域を複数の補正領域に分割し、前記補正領域ごとに前記開口率を算出する開口率算出手段と、
前記開口率算出手段で算出された前記開口率を前記定量化の結果に入力して、前記実デバイスパターンの前記寸法変動を前記補正領域ごとに算出し、これに基づき前記実デバイスパターンの設計データを補正するデータ補正手段と
を含むことを特徴とするパターン寸法補正装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/08 D
, H01L21/30 502P
2H095BA01
, 2H095BB02
, 2H095BB36
