特許
J-GLOBAL ID：200903094820050983
印刷回路用の水系処理可能で光画像化可能な耐久性多層被覆材
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小田島 平吉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-126271
公開番号（公開出願番号）：特開平9-304926
出願日： 1996年04月24日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：
【要約】【課題】 印刷回路用の水系処理可能で光画像化可能な耐久性多層被覆材。【解決手段】 光画像化可能組成物で出来ている複数の層を含む、印刷回路を保護する耐久性被覆材として用いるに適した水系処理可能で光画像化可能な要素は、この印刷回路基質への早過ぎる接着が生じないに充分な低い粘着性を有するが、積層中に熱と圧力をかけるとその回路基質に対して良好な接着を生じる。
請求項（抜粋）：
印刷回路板に接触させて位置させた時に低い粘着性を示しそして硬化後に溶融はんだに耐える能力を有していて水系処理可能で光画像化可能な耐久性多層被覆要素であって、(a)一時的支持フィルム、(b)(i)両性結合剤、(ii)式【化1】[式中、R1は、Hまたはアルキルであり、R2は、フェニルまたは-CO2R3であり、そしてR3は、H、または未置換であるか或は1個以上のヒドロキシ基で置換されているアルキルである]で表されるカルボキシル基含有コポリマー結合剤、(iii)エチレン系不飽和基を少なくとも2個有するモノマー成分、および(iv)光開始剤または光開始剤系、を含む光画像化可能耐久被覆材組成物の第一層、(c)(i)少なくとも1種のエチレン系不飽和ジカルボン酸無水物と少なくとも1種のエチレン系不飽和コモノマーから生じさせたコポリマーと第一級アミンの反応生成物であって少なくとも1種の構造単位Aと追加的に少なくとも1種のカルボキシル基含有構造単位B1およびB2を含有する低分子量コポリマー結合剤であって、(I)上記低分子量コポリマー結合剤の5から50重量%を少なくとも1種のカルボキシル基含有構造単位B1、B2またはこれらの組み合わせから生じさせ、(II)上記低分子量コポリマー結合剤の50から95重量%を構造単位Aから生じさせ、ここで、Aは構造単位B1およびB2とは異なり、そして(III)A、B1およびB2が構造:【化2】[ここで、R4は、H、アルキル、フェニルまたはアリールであり、R5は、H、CH3、フェニル、アリール、-COOR10、-CONR11R12または-CNであり、R6およびR7は、独立して、Hまたはアルキルであり、R8は、未置換であるか或は第一級アミノ、第二級アミノ、第三級アミノ、ヒドロキシもしくはエーテル基またはこれらの混合物で置換されているアルキルまたはアリールであり、R9は、-OHまたはNHR8であり、そしてR10、R11およびR12は、独立して、H、アルキルまたはアリールであり、これは未置換であるか或は1個以上のヒドロキシ、エステル、ケト、エーテルまたはチオエーテル基で置換されている]で表される、分子量が2,000から10,000の低分子量コポリマー結合剤成分;および式【化3】[式中、R13は、H、アルキル、-CN、フェニル、アルキルフェニルまたはアリールであり、R14は、フェニル、アルキルフェニル、アリール、-COOR15または-CONR11R12であり、R15は、Hまたはアルキルであり、そしてここで、アルキルは炭素原子を1から8個含む]で表される構造単位を含んでいて40,000から500,000の分子量を有する高分子量カルボン酸含有コポリマー結合剤成分;を含む共結合剤系、(ii)アクリル化ウレタンモノマー成分、(iii)光開始剤または光開始剤系、および(iv)ブロック化ポリイソシアネート架橋剤、を含む光画像化可能耐久被覆材組成物の第二層、を含む耐久性多層被覆要素。
IPC (11件)：
G03F 7/027 511
, G03F 7/027 513
, C09D 4/00 PDS
, C09D 4/02 PDR
, C09D 4/02 PEN
, C09D133/02 PFW
, C09D133/16 PGF
, C09D135/00
, C09D175/16 PDZ
, G03F 7/028
, H05K 3/28
G03F 7/027 511
, G03F 7/027 513
, C09D 4/00 PDS
, C09D 4/02 PDR
, C09D 4/02 PEN
, C09D133/02 PFW
, C09D133/16 PGF
, C09D135/00
, C09D175/16 PDZ
, G03F 7/028
, H05K 3/28 D
