特許

J-GLOBAL ID：200903094837843065

基板処理装置び基板処理方法

発明者： 池田 小夜子
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-255871
公開番号（公開出願番号）：特開2001-085295
出願日： 1999年09月09日
公開日（公表日）： 2001年03月30日
要約：

【要約】【課題】 処理液の振り切り時に飛散したミストを有効に排出できる基板処理装置を提供する。【解決手段】 処理液によって処理された基板Wを回転させ処理液を振切るウエハ保持機構2と、このウエハ保持機構2によって保持された基板Wを囲み前記振り切られた処理液を受けるカップ12と、このカップ12から処理液を排出する排出路11とを有し、前記カップ12には、渦流を発生させこの渦流で基板Wの径方向外方に飛散したミスト状の処理液をカップ12内に捕捉するための気流滞留部16が設けられている。

請求項（抜粋）：

処理液によって処理された基板を回転させ、処理液を振切る基板回転駆動機構と、この基板回転機構によって保持された基板を囲み、前記振り切られた処理液を受ける容器と、この容器から処理液を排出する排出路とを有し、前記容器には、渦流を発生させこの渦流で基板の径方向外方に飛散したミスト状の処理液をこの容器内に捕捉するための気流滞留部が設けられていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/304 651

FI (3件)：

H01L 21/30 569 C ,  G03F 7/30 502 ,  H01L 21/304 651 B

Fターム (11件)：

2H096AA00 ,  2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096GA02 ,  2H096GA17 ,  2H096GA29 ,  2H096GA32 ,  2H096GA33 ,  5F046LA05 ,  5F046LA06 ,  5F046LA07

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 回転式基板塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-203935   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開昭56-044066
  
• 回転式基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-215339   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開昭56-044066