特許
J-GLOBAL ID：200903094899912454
露光装置判定システム、露光装置判定方法、露光装置判定プログラム及び半導体装置の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (8件)：
三好 秀和
, 三好 保男
, 岩▲崎▼ 幸邦
, 川又 澄雄
, 中村 友之
, 伊藤 正和
, 高橋 俊一
, 高松 俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-234053
公開番号（公開出願番号）：特開2004-079586
出願日： 2002年08月09日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：
【課題】複数の露光装置の製品展開装置群としての適用可否を迅速且つ容易に判定し、製品展開に適用できる装置判定システムを提供する。【解決手段】複数の露光装置の相互の光学系誤差の情報を算出する光学系誤差情報算出手段10aと、算出された光学系誤差の情報に基づき、露光装置毎に描画されるデバイスパターンをシミュレーションするシミュレーション手段10bと、シミュレーションされたデバイスパターンに基づき、複数の露光装置のそれぞれについて、製品展開装置群として適用できる特性を有するか否かを判定する装置判定手段10cとを備える露光装置判定システム。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
複数の露光装置の相互の光学系誤差の情報を算出する光学系誤差情報算出手段と、
前記情報に基づき、前記露光装置毎に描画されるデバイスパターンをシミュレーションするシミュレーション手段と、
前記シミュレーションされたデバイスパターンに基づき、前記複数の露光装置のそれぞれについて、製品展開装置群として適用できる特性を有するか否かを判定する装置判定手段
とを備えることを特徴とする露光装置判定システム。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 502Z
, G03F7/20 521
5F046AA28
, 5F046DB11
, 5F046DB14
