特許
J-GLOBAL ID：200903094984797010
加熱・加圧処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
安田 敏雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-073892
公開番号（公開出願番号）：特開平10-270452
出願日： 1997年03月26日
公開日（公表日）： 1998年10月09日
要約：
【要約】【課題】 Siウェーハ等の被処理品を枚葉式によって加熱・加圧処理するとき、ガスのシール性の確保、安全性の確保、経済性の向上を図る。【解決手段】 処理を行なう容器1が容器軸方向で少なくとも2つ以上に分割されている容器構成部材2,3で構成されており、該容器構成部材2,3の分割部に交換自在としてシールリング9を備え、前記容器構成部材2,3は前記シールリング9を介して分割部が密封されたとき前記被処理品4のための処理空間5を形成する形状部分を有しており、更に、前記容器構成部材2,3には前記シールリング9のための冷却手段10を備え、前記分割部の密封を確保するため前記容器構成部材2,3を容器軸方向に押圧する押圧手段18を備えているとともに前記被処理品を処理するため処理空間5に加圧ガスを導入するガス導入手段20を備えている。
請求項（抜粋）：
ガス雰囲気下で板状の被処理品を加熱・加圧処理する装置において、処理を行なう容器が容器軸方向で少なくとも2つ以上に分割されている容器構成部材で構成されており、該容器構成部材の分割部に交換自在としてシールリングを備え、前記容器構成部材は前記シールリングを介して分割部が密封されたとき前記被処理品のための処理空間を形成する形状部分を有しており、更に、前記容器構成部材には前記シールリングのための冷却手段を備え、前記分割部の密封を確保するため前記容器構成部材を容器軸方向に押圧する押圧手段を備えているとともに前記被処理品を処理するため処理空間に加圧ガスを導入するガス導入手段を備えていることを特徴とする加熱・加圧処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/324
, B01J 3/00
, H01L 21/768
H01L 21/324 R
, B01J 3/00 A
, H01L 21/90 C
