特許
J-GLOBAL ID:200903095031788249

沈殿により化合物を製造するための装置及び方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (8件): 矢野 敏雄 ,  山崎 利臣 ,  久野 琢也 ,  杉本 博司 ,  星 公弘 ,  二宮 浩康 ,  アインゼル・フェリックス=ラインハルト ,  ラインハルト・アインゼル
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-502023
公開番号(公開出願番号):特表2009-531173
出願日: 2007年03月20日
公開日(公表日): 2009年09月03日
要約:
本発明は、溶液から固体を沈殿させることにより化合物を製造するための装置及び方法に関するものであり、その際に、沈殿の際に形成する固体の粒子の物理的及び化学的な性質が極めてフレキシブルに及び互いに独立して調節されることができ、ひいては極めて高い空時収率を有するテーラーメードの生成物が製造され、並びに20m2/g未満のBET表面積及び2.4g/cm3超のタップ密度を有する一般式NixCo1-x(OH)2の粉末状Ni,Co混合水酸化物に関する。
請求項(抜粋):
反応器中での沈殿により化合物を製造するための装置であって、前記反応器が、傾いた傾斜板沈降装置(Schraegklaerer)を有することを特徴とする、反応器中での沈殿による化合物を製造するための装置。
IPC (5件):
B01J 19/24 ,  B01D 21/02 ,  B01D 21/30 ,  C01G 53/00 ,  H01M 4/52
FI (7件):
B01J19/24 Z ,  B01D21/02 F ,  B01D21/30 G ,  B01D21/30 Z ,  B01D21/02 J ,  C01G53/00 A ,  H01M4/52 101
Fターム (28件):
4G048AA03 ,  4G048AB02 ,  4G048AC06 ,  4G048AD03 ,  4G048AE05 ,  4G075AA27 ,  4G075BB05 ,  4G075BB08 ,  4G075BD15 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EC25 ,  5H050AA19 ,  5H050BA11 ,  5H050BA15 ,  5H050CA04 ,  5H050CA08 ,  5H050FA17 ,  5H050GA11 ,  5H050GA12 ,  5H050GA29 ,  5H050HA02 ,  5H050HA04 ,  5H050HA05 ,  5H050HA07 ,  5H050HA08 ,  5H050HA10 ,  5H050HA12
引用特許:
審査官引用 (7件)
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