特許
J-GLOBAL ID:200903095130904013
枚葉式の基板処理装置、枚葉式の基板処理装置の運転方法及び記憶媒体
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
井上 俊夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-095399
公開番号(公開出願番号):特開2008-258192
出願日: 2007年03月30日
公開日(公表日): 2008年10月23日
要約:
【課題】枚葉式の処理モジュールを複数備えた基板処理装置において、搬入ポートにおけるキャリアの載置場所不足をフットプリントの増大を回避しつつ緩和できる技術を提供する。【解決手段】 基板処理装置3は、枚葉式の処理モジュール34a〜34dと、基板搬送手段31aを備えた基板搬送室31と、基板搬送手段31aのアクセス領域に収納容器CAを載置するための第1の載置台10aが左右方向に並べられた搬入ポート1と、第1の載置台10aの配列領域の延長線上に設けられ、収納容器CAを一時的に載置する第2の載置台と、ここに載置された収納容器CAを第1の載置台10a上へ移載する移載手段2と、を備え、第2の載置台10bの左右方向外端は、当該処理装置3のメンテナンス領域の左右方向外端及び前記処理モジュール群34a、34dの左右方向外端のうち、外側に位置する方の外端よりも左右方向内側に位置する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
基板を処理する複数の枚葉式の処理モジュールと、
この処理モジュールに気密に接続され、基板搬送手段を備えた基板搬送室と、
基板を収納する収納容器が外部から搬入され、前記基板搬送手段のアクセス領域に当該収納容器を載置するための複数の第1の載置台が左右方向に並べられた搬入ポートと、
前記第1の載置台の配列領域の左右少なくとも一方の延長線上に設けられ、収納容器を一時的に載置する第2の載置台と、
この第2の載置台に載置された収納容器を前記第1の載置台上へ移載する移載手段と、を備え、
前記第2の載置台の左右方向外端は、当該処理装置のメンテナンス領域の左右方向外端及び前記処理モジュール群の左右方向外端のうち、外側に位置する方の外端よりも左右方向内側に位置することを特徴とする枚葉式の基板処理装置。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L21/68 A
, H01L21/02 Z
Fターム (25件):
5F031CA02
, 5F031DA01
, 5F031DA08
, 5F031FA01
, 5F031FA03
, 5F031FA07
, 5F031FA11
, 5F031FA12
, 5F031FA15
, 5F031GA02
, 5F031GA04
, 5F031GA12
, 5F031GA43
, 5F031GA44
, 5F031GA47
, 5F031GA48
, 5F031GA49
, 5F031GA50
, 5F031MA04
, 5F031MA13
, 5F031MA16
, 5F031MA28
, 5F031MA29
, 5F031MA32
, 5F031PA30
引用特許:
出願人引用 (7件)
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処理システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-214235
出願人:東京エレクトロン株式会社
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処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-111115
出願人:東京エレクトロン株式会社
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-306653
出願人:株式会社日立国際電気
-
基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-035738
出願人:株式会社日立国際電気
-
半導体の生産方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-308293
出願人:株式会社日立製作所
-
基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-181806
出願人:東京エレクトロン株式会社
-
キャリア識別システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-152502
出願人:神鋼電機株式会社
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審査官引用 (5件)
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-306653
出願人:株式会社日立国際電気
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-035738
出願人:株式会社日立国際電気
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半導体の生産方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-308293
出願人:株式会社日立製作所
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-181806
出願人:東京エレクトロン株式会社
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キャリア識別システム
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-152502
出願人:神鋼電機株式会社
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