特許
J-GLOBAL ID:200903047327375921
処理装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
井上 俊夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-111115
公開番号(公開出願番号):特開2003-309158
出願日: 2002年04月12日
公開日(公表日): 2003年10月31日
要約:
【要約】【課題】 熱処理装置などの半導体製造装置は、全体が筐体で囲まれているが、メンテナンス時にインターロック機能を解除する場合などにおいて、例えばウエハの搬送容器(キャリア)を搬送する搬送機構と筐体の一部であるパネル部との間に作業者が挟まって事故につながるおそれがある。【解決手段】パネル部の上縁側を当該上縁に沿った軸の回りに回動自在に支持し、このパネル部が搬送機構の移動領域側から押圧されたときに当該移動領域とは反対側に回動してパネル部が開くように構成する。また搬送機構の一部である昇降部例えば搬送アームをガイドするガイドレールを含む昇降部を、昇降機構側に設けられた基端部分と、この基端部分により水平な軸の回りに回動自在にかつ下方側への回動を阻止された状態で支持されたガイドレールとに分け、ガイドレールが下方側から押圧されたときに上側に向かって回動するように構成する。
請求項(抜粋):
被処理体を収納した搬送容器が搬入される搬入領域と、搬送容器の搬送を行う搬送機構と、この搬送機構の移動領域に面し、装置を囲む筐体の一部をなすパネル部とを備え、搬入領域に搬入された搬送容器の中から被処理体を取り出して処理を行う処理装置において、前記パネル部の一縁側を当該一縁に沿った軸の回りに回動自在に支持し、このパネル部が搬送機構の移動領域側から押圧されたときに当該移動領域とは反対側に回動してパネル部が開くように構成したことを特徴とする処理装置。
IPC (5件):
H01L 21/68
, B65G 49/07
, H01L 21/027
, H01L 21/265 603
, H01L 21/324
FI (6件):
H01L 21/68 A
, B65G 49/07 C
, B65G 49/07 L
, H01L 21/265 603 Z
, H01L 21/324 S
, H01L 21/30 567
Fターム (25件):
5F031CA02
, 5F031DA08
, 5F031EA14
, 5F031EA20
, 5F031FA01
, 5F031FA03
, 5F031FA09
, 5F031FA11
, 5F031FA12
, 5F031GA43
, 5F031GA47
, 5F031GA48
, 5F031GA49
, 5F031KA20
, 5F031LA12
, 5F031MA13
, 5F031MA16
, 5F031MA30
, 5F031NA04
, 5F031NA09
, 5F031NA10
, 5F031PA08
, 5F046CD01
, 5F046KA01
, 5F046KA07
引用特許:
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (10件)
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