特許
J-GLOBAL ID:200903095189645976
フェノール変性シアネートオリゴマー組成物の製造方法、この方法によって得られるフェノール変性シアネートオリゴマー組成物並びにこれを用いたプリプレグ及び金属張積層板
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
若林 邦彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-368857
公開番号(公開出願番号):特開2001-181388
出願日: 1999年12月27日
公開日(公表日): 2001年07月03日
要約:
【要約】【課題】 良好な誘電特性、特にGHz以上の高周波帯域で優れた誘電特性を示す金属張積層板に有用なフェノール変性シアネートオリゴマー組成物の製造方法【解決手段】 (A)分子中にシアナト基を2つ以上含有するシアネート化合物と(B)一般式(I)で表されるフェノール化合物とを、分子中にシアナト基を2つ以上含有するシアネート化合物のシアナト基と一般式(I)で表されるフェノール化合物のフェノール性水酸基との当量比(水酸基/シアナト基比)が0.025/1〜0.30/1の範囲になるように配合して反応させることを特徴とするフェノール変性シアネートエステルオリゴマー組成物の製造方法。【化1】(式中、R1、R2は水素原子又はメチル基を示し、それぞれ同じであっても異なってもよく、R3は置換基を有していてもよいフェニル基、水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基、nは1〜3の整数を表す)
請求項(抜粋):
(A)分子中にシアナト基を2つ以上含有するシアネート化合物と(B)一般式(I)で表されるフェノール化合物とを、分子中にシアナト基を2つ以上含有するシアネート化合物のシアナト基と一般式(I)で表されるフェノール化合物のフェノール性水酸基との当量比(水酸基/シアナト基比)が0.025/1〜0.30/1の範囲になるように配合して反応させることを特徴とするフェノール変性シアネートエステルオリゴマー組成物の製造方法。【化1】(式中、R1、R2は水素原子又はメチル基を示し、それぞれ同じであっても異なってもよく、R3は置換基を有していてもよいフェニル基、水素原子又は炭素数1〜5のアルキル基、nは1〜3の整数を表す)
IPC (4件):
C08G 73/06
, C07D251/34
, C08J 5/24 CFF
, H05K 1/03 610
FI (4件):
C08G 73/06
, C07D251/34 K
, C08J 5/24 CFF
, H05K 1/03 610 M
Fターム (46件):
4F072AA04
, 4F072AA07
, 4F072AB09
, 4F072AB28
, 4F072AD43
, 4F072AD54
, 4F072AG03
, 4F072AH02
, 4F072AH21
, 4F072AJ04
, 4F072AK05
, 4F072AK14
, 4F072AL12
, 4F072AL13
, 4J043PA18
, 4J043PB09
, 4J043PB13
, 4J043PB23
, 4J043QC14
, 4J043QC23
, 4J043RA03
, 4J043RA08
, 4J043RA47
, 4J043SA13
, 4J043SA43
, 4J043SB01
, 4J043TA02
, 4J043TA53
, 4J043TA66
, 4J043TA67
, 4J043TA71
, 4J043TB01
, 4J043UA081
, 4J043UA122
, 4J043UA131
, 4J043UA132
, 4J043UA141
, 4J043UB021
, 4J043UB022
, 4J043UB061
, 4J043VA041
, 4J043XB03
, 4J043ZA12
, 4J043ZA43
, 4J043ZB50
, 4J043ZB59
引用特許:
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