特許
J-GLOBAL ID：200903095201700180

2流体ノズル及び洗浄装置

発明者：
逢坂 勉

逢坂 勉 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (2件)： 角田 芳末 ,  磯山 弘信
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-071571
公開番号（公開出願番号）：特開2006-247619
出願日： 2005年03月14日
公開日（公表日）： 2006年09月21日
要約：
【課題】 噴射用ガスの使用量を減らすと共に、被洗浄物に噴射する液滴の径を均一にして、被洗浄物の表面に形成された素子等を破壊することなく、洗浄物の表面に付着している異物等を除去できるようにする。【解決手段】 2流体ノズルを、ガスと液体とを混合する混合部と、前記ガスを前記混合部へ導くガス流通路と、前記ガス流通路に設けられた前記ガスを回転させるためのスパイラル構造で構成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
回転することにより加速したガスと液体とを混合して液滴を発生することを特徴とする2流体ノズル。
IPC (4件)：
B05B 7/04 ,  B01F 3/04 ,  B08B 3/02 ,  H01L 21/304
FI (4件)：
B05B7/04 ,  B01F3/04 F ,  B08B3/02 A ,  H01L21/304 643C
Fターム (18件)：
3B201AA03 ,  3B201AB34 ,  3B201BB22 ,  3B201BB38 ,  3B201BB88 ,  3B201BB90 ,  3B201BB92 ,  4F033QA09 ,  4F033QB02Y ,  4F033QB03X ,  4F033QD02 ,  4F033QD03 ,  4F033QD09 ,  4F033QD20 ,  4G035AB06 ,  4G035AB11 ,  4G035AB16 ,  4G035AC44
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (7件)
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