特許

J-GLOBAL ID：200903095357973739

波長走査レーザ干渉計を用いた周波数解析における誤差補正方法

発明者： 植木 伸明
出願人/特許権者： 富士写真光機株式会社
代理人 (1件)： 川野 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-168609
公開番号（公開出願番号）：特開2001-349705
出願日： 2000年06月06日
公開日（公表日）： 2001年12月21日
要約：

【要約】【目的】 実測データと元データの両光路長差の関係を対比テーブルなどで規定しておき、実際の測定解析データは、予め規定されているこの関係に基づき、元データの値に一旦較正するようにすることで、関数フィッティング時等に生じた光路長差の誤差を容易に補正することを可能とする。【構成】 S4での光路長差Lと、S6により求められた光路長差L ́との対比テーブルを作成し、図示されないメモリに記憶せしめる(S7)。最後に、S1で求めた解析結果をS7で作成した対比テーブルを用いて誤差補正する(S8)。上記対比テーブルにおいて、解析結果が0.750mmであったとすると、横軸上で0.750mmとなる点を上に延ばし、対比曲線と交わったら、この交点から左方向に矢印を延ばし、縦軸の元データ値を読取る。この元データ値として0.754mmが得られた場合には、このテーブルにより0.004mmの解析誤差が補正されることとなる。

請求項（抜粋）：

波長走査レーザを用いた干渉計で得られた情報に周波数解析を施し、被検体の形状に応じた光路長差を求める波長走査レーザ干渉計を用いた周波数解析における誤差補正方法において、前記干渉計で得られた各位置毎の被検体による干渉信号変化をフーリエ変換し、該フーリエ変換により得られたフーリエスペクトルのピーク点付近において所定の高次関数でフィッティングして所定の光路長差Lexpを求め、この解析により得られた複数個の光路長差の中から最大値Pおよび最小値Vを求め、該Pより大きい所定値L2および該Vより小さい所定値L1を設定し、該L1以上で該L2以下の範囲において、前記被検体測定情報における各位置情報とその光路長差Lの関係を規定し、次に、該規定された関係における光路長差Lと、実測の波長λまたは波数kとを用いて下式(1)で表わされる干渉縞を作り、該作られた干渉縞情報の各位置毎に周波数解析を施し、該干渉縞情報により示された点を所定の高次関数でフィッティングして所定の光路長差L ́を求め、しかる後、前記光路長差Lと、前記光路長差L ́との関係を規定して記憶させ、前記解析結果Lexpを前記規定された2つの光路長差L、L ́の関係に基づき誤差補正することを特徴とする波長走査レーザ干渉計を用いた周波数解析における誤差補正方法。【数1】

IPC (3件)：

G01B 11/00 ,  G01B 9/02 ,  G01J 9/02

FI (3件)：

G01B 11/00 G ,  G01B 9/02 ,  G01J 9/02

Fターム (31件)：

2F064AA01 ,  2F064CC04 ,  2F064FF02 ,  2F064FF08 ,  2F064GG04 ,  2F064GG13 ,  2F064GG17 ,  2F064GG22 ,  2F064GG39 ,  2F064GG49 ,  2F064GG57 ,  2F064HH03 ,  2F064HH08 ,  2F064JJ01 ,  2F064JJ06 ,  2F064JJ15 ,  2F065AA02 ,  2F065AA06 ,  2F065FF51 ,  2F065FF61 ,  2F065GG06 ,  2F065GG25 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL02 ,  2F065LL28 ,  2F065LL35 ,  2F065LL42 ,  2F065LL46 ,  2F065QQ16 ,  2F065QQ29

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 三次元イメージングのためのシステム及び方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-509018   出願人：ヴェリディアンエリムインターナショナルインコーポレイテッド
• 半導体多層薄膜膜厚測定装置およびその測定方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-148839   出願人：日本分光株式会社, 三菱電機株式会社
• 信号の周期検出方法及びそれを用いた投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-081768   出願人：株式会社日立製作所