特許
J-GLOBAL ID:200903095407819841
階段状のプログラミング特性を有する相変化メモリセル
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人原謙三国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-187004
公開番号(公開出願番号):特開2008-103677
出願日: 2007年07月18日
公開日(公表日): 2008年05月01日
要約:
【課題】階段状のプログラミング特性を有する相変化メモリを形成し、相変化メモリの高密度化をはかる手法を提供する。【解決手段】メモリセルは、第1の電極202、第2の電極206、および上記第1の電極202と上記第2の電極206との間にある相変化材料204を含んでいる。上記相変化材料204は、階段状のプログラム特性を有している。【選択図】図2A
請求項(抜粋):
第1の電極と、
第2の電極と、
上記第1の電極と上記第2の電極との間にあり、かつ階段状のプログラム特性を有している相変化材料と、
を備えるメモリセル。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L27/10 448
, H01L45/00 Z
Fターム (10件):
5F083FZ10
, 5F083JA37
, 5F083JA39
, 5F083JA40
, 5F083JA56
, 5F083JA60
, 5F083MA06
, 5F083MA16
, 5F083PR40
, 5F083ZA21
引用特許:
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