特許
J-GLOBAL ID:200903095424046970
複数超音波照射によるリポソーム製造装置及び製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-195045
公開番号(公開出願番号):特開2007-007625
出願日: 2005年07月04日
公開日(公表日): 2007年01月18日
要約:
【課題】数十nmから150nmの大きさにおいて粒径分布の狭い、異物混入のない高品質のリポソームを調製する製造装置、及びその製造方法を提供する。【解決手段】リポソーム原料液を循環させながら、低周波超音波、及び高周波超音波照射により上記リポソームを調製するリポソームの製造装置、超音波照射手段が、低周波超音波照射手段、及び高周波超音波照射手段からなる上記リポソームの製造装置、及び複数の異なる周波数の超音波を原料液に照射することにより、微細リポソームを調製することを特徴とするリポソームの製造方法。【効果】キャビテーションによる変性影響の少ない高品質リポソームを、高効率で製造し、提供することができる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
超音波照射によりリポソームを製造するための装置において、複数の異なる周波数の超音波を照射する超音波照射手段を有することを特徴とするリポソームの製造装置。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (10件):
4C076AA19
, 4C076DD63F
, 4C076FF43
, 4G005AA07
, 4G005BB20
, 4G005CA01
, 4G005DB02Y
, 4G005DB02Z
, 4G005EA01
, 4G005EA03
引用特許: