リトグラフ投影装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-183797
公開番号（公開出願番号）：特開2000-031052
出願日： 1999年06月29日
公開日（公表日）： 2000年01月28日
要約：

【要約】【課題】リトグラフ投影装置において台形の強度輪郭を有する照明ビームを発生させるための便利な手段を提供すること。【解決手段】パターン領域と不透過性支持部とを有するマスク上のパターンを、基板上の感光材料の層に照射するために、例えば、電子ビームを用いるリトグラフ装置が提供される。該装置は位置的な不正確さが生じた場合に、サブフィールドのスティッチ部分において、より均等な照射をするために、台形の輪郭を有するビームを使用する。該台形のビーム輪郭は照射周期の間のマスク上の照明ビームの寸法あるいは位置を変化させることによって発生される。

請求項（抜粋）：

不透過領域によって囲まれた複数個の透過領域を有するマスクのマスクパターンを、放射ビーム敏感材料の層を設けた基板の上へ結像させるためのリトグラフ投影装置であって、照明ビームを発生させるための放射光源と照明系とを有する照射系と;マスクを保持するためのマスク保持器を有する第1の可動対物台と;基板を保持するための基板保持器を有する第2の可動対物台と;前記マスクの照射系を基板の目標部分の上へ結像させるための投影系とを有し、前記照明系が、与えられた透過領域の少なくとも一部分を照射している周期中に、マスク上の照明ビームの寸法あるいは位置を変化させて、実効的な台形のビーム輪郭を発生させるようになっていることを特徴とするリトグラフ投影装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 514 C , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 516 D

引用特許：

出願人引用 (3件)

荷電粒子線転写装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-258728 出願人：株式会社ニコン
露光装置および方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-073120 出願人：キヤノン株式会社
露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-140974 出願人：株式会社ニコン

審査官引用 (3件)

露光装置および方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-073120 出願人：キヤノン株式会社
荷電粒子線転写装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-258728 出願人：株式会社ニコン
露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-140974 出願人：株式会社ニコン

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