特許
J-GLOBAL ID：200903095531455793
感光性樹脂組成物、シリカ系被膜の形成方法、及びシリカ系被膜を備える装置及び部材
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
長谷川 芳樹
, 寺崎 史朗
, 赤堀 龍吾
, 沖田 英樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-166780
公開番号（公開出願番号）：特開2008-122916
出願日： 2007年06月25日
公開日（公表日）： 2008年05月29日
要約：
【課題】層間絶縁膜の形成が比較的容易であり、かつ形成される層間絶縁膜が耐熱性及び解像性に優れる感光性樹脂組成物及びそれを用いるシリカ系被膜の形成方法を提供すること。【解決手段】(a)成分:下記一般式(1)で表される化合物を含むシラン化合物を加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂と、(b)成分:微粒子と、(c)成分:ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルと、(d)成分:(a)成分が溶解する溶媒とを含有する感光性樹脂組成物。[式(1)中、R1は有機基を示し、Aは2価の有機基を示し、Xは加水分解性基を示し、同一分子内の複数のXは同一でも異なっていてもよい。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(a)成分:下記一般式(1)で表される化合物を含むシラン化合物を加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂と、
(b)成分:微粒子と、
(c)成分:ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルと、
(d)成分:前記(a)成分が溶解する溶媒と、
を含有する感光性樹脂組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/075
, G03F 7/004
, G03F 7/023
, H01L 21/027
, G02F 1/136
G03F7/075 521
, G03F7/004 501
, G03F7/023
, H01L21/30 502R
, G02F1/1368
2H025AA02
, 2H025AA13
, 2H025AB14
, 2H025AB16
, 2H025AC01
, 2H025AD03
, 2H025BE01
, 2H025CB33
, 2H025CB43
, 2H025CC08
, 2H025FA17
, 2H025FA29
, 2H092JA24
, 2H092JB56
, 2H092KB25
, 2H092MA13
, 2H092NA27
, 2H096AA25
, 2H096AA28
, 2H096BA10
, 2H096EA02
, 2H096GA09
, 2H096HA01
