特許
J-GLOBAL ID:200903095538823631

硬質皮膜

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-148638
公開番号(公開出願番号):特開2004-256922
出願日: 2004年05月19日
公開日(公表日): 2004年09月16日
要約:
【課題】本願発明は、密着性、耐高温酸化特性及び耐摩耗性に優れた硬質皮膜を提供することを目的とする。【解決手段】アーク放電式イオンプレーティング法により被覆される硬質皮膜であって、該硬質皮膜は(AlxCr1-x)(N1-α-β-γBαCβOγ)、但し、x、α、β、γは夫々原子比率を示し、0.45<X<0.75、0≦α<0.12、0≦β<0.20、0.01≦γ≦0.25からなり、ガス圧を1.5〜5.0Pa、被覆基体温度を450〜700°C、バイアス電圧を-15〜-300Vの低バイアス電圧で、X線光電子分光分析における525eVから535eVの範囲に少なくともCr及び/又はAlと酸素との結合エネルギーを有することを特徴とする硬質皮膜の製造方法である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
アーク放電式イオンプレーティング法により被覆される硬質皮膜であって、該硬質皮膜は(AlxCr1-x)(N1-α-β-γBαCβOγ)、但し、x、α、β、γは夫々原子比率を示し、0.45<X<0.75、0≦α<0.12、0≦β<0.20、0.01≦γ≦0.25からなり、ガス圧を1.5〜5.0Pa、被覆基体温度を450〜700°C、バイアス電圧を-15〜-300Vの低バイアス電圧で、X線光電子分光分析における525eVから535eVの範囲に少なくともCr及び/又はAlと酸素との結合エネルギーを有することを特徴とする硬質皮膜の製造方法。
IPC (2件):
C23C14/06 ,  C23C24/08
FI (2件):
C23C14/06 L ,  C23C24/08 C
Fターム (15件):
4K029AA02 ,  4K029AA04 ,  4K029BA41 ,  4K029BC02 ,  4K029BD05 ,  4K029CA04 ,  4K029EA03 ,  4K029EA08 ,  4K044AA02 ,  4K044BA12 ,  4K044BA18 ,  4K044BB11 ,  4K044BC11 ,  4K044CA24 ,  4K044CA35
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 特許第3027502号公報
  • 特許第3039381号公報
  • 工具の表面処理方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-357450   出願人:トーヨーエイテック株式会社, 和興産業株式会社
審査官引用 (3件)

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