特許
J-GLOBAL ID:200903095654758430

磁性膜の形成方法、磁性パターンの形成方法及び磁気記録媒体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉村 俊一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-033848
公開番号(公開出願番号):特開2005-228816
出願日: 2004年02月10日
公開日(公表日): 2005年08月25日
要約:
【課題】 保磁力が異なる部分を有する磁性膜を形成することができる磁性膜の形成方法等を提供する。【解決手段】 Fe及びCoの少なくとも一方と、Pd及びPtの少なくとも一方とを主成分とする薄膜4にB、Ag及びCuから選ばれる1種を有する膜5を形成し、B、Ag及びCuから選ばれる1種を有する膜5上からその膜5が形成された薄膜4に不活性ガスイオン6を局所的に注入して記B、Ag及びCuから選ばれる1種を薄膜4内に混合した後に、その該薄膜を熱処理して保磁力が異なる部分を有する磁性膜11を形成する。B、Ag及びCuから選ばれる1種が混合された部位7は高い保磁力を有する部位9となり、B、Ag及びCuから選ばれる1種が混合されていない部位8は低い保磁力を有する部位10となる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
Fe及びCoの少なくとも一方と、Pd及びPtの少なくとも一方とを主成分とする薄膜にB、Ag及びCuから選ばれる1種を有する膜を形成し、該B、Ag及びCuから選ばれる1種を有する膜上から該膜が形成された薄膜に不活性ガスイオンを局所的に注入して前記B、Ag及びCuから選ばれる1種を薄膜内に混合した後に、該薄膜を熱処理することを特徴とする磁性膜の形成方法。
IPC (5件):
H01F41/16 ,  G11B5/66 ,  G11B5/851 ,  H01F10/14 ,  H01F10/16
FI (5件):
H01F41/16 ,  G11B5/66 ,  G11B5/851 ,  H01F10/14 ,  H01F10/16
Fターム (23件):
5D006BB01 ,  5D006BB07 ,  5D006BB08 ,  5D006CA01 ,  5D006CA06 ,  5D006DA03 ,  5D006EA03 ,  5D006FA00 ,  5D006FA09 ,  5D112AA05 ,  5D112AA20 ,  5D112AA24 ,  5D112BB02 ,  5D112BB05 ,  5D112FA04 ,  5D112GA23 ,  5D112GB01 ,  5E049AA01 ,  5E049AA04 ,  5E049AA09 ,  5E049BA06 ,  5E049EB06 ,  5E049FC01
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (6件)
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