特許
J-GLOBAL ID：200903095748142297
レーザイメージング装置に用いる平版印刷プレート
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
古谷 馨 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-528431
公開番号（公開出願番号）：特表2002-500973
出願日： 1999年01月22日
公開日（公表日）： 2002年01月15日
要約：
【要約】【課題】 支持基体と、その上に配置された融除-吸収性の層と、任意選択的に、融除吸収されない耐久性のあるインク受容性表面層とからなる平版印刷プレートの提供。【解決手段】 融除-吸収性の層は、有機スルホン酸成分を高い重量割合で含む。印刷プレートはさらに、融除-吸収性層と基体の間に介在された親水性ポリマー層を含むことができる。印刷プレートはまた、融除-吸収性の層の下側に置かれたプライマー層を含んでよく、接着促進剤がプライマー層中に存在する。こうした平版印刷プレートの調製方法、及びレーザに対するイメージに関連した露光とその後の水又は洗浄溶液による洗浄工程により、こうした平版印刷プレートからイメージングされた平版印刷プレートを調製する方法もまた提供される。
請求項（抜粋）：
レーザ放射線によりイメージング可能なポジティブワーキング湿式平版印刷部材であって、(a)一つ又はより多くのポリマーと、レーザ放射線の吸収により特徴付けられる増感剤とからなり、レーザ放射線の融除的吸収により特徴付けられるインク受容性の表面層と、(b)前記表面層の下側にある親水性層であって、親水性ポリマーと第一の架橋剤との架橋高分子反応生成物からなり、レーザ放射線の融除的吸収の欠如および水に可溶でないことにより特徴付けられる親水性層と、及び(c)基体とからなる部材。
Fターム (20件)：
2H114AA04
, 2H114AA14
, 2H114AA22
, 2H114AA27
, 2H114AA28
, 2H114BA01
, 2H114BA10
, 2H114DA04
, 2H114DA35
, 2H114DA43
, 2H114DA51
, 2H114DA55
, 2H114DA56
, 2H114DA60
, 2H114DA64
, 2H114DA73
, 2H114EA01
, 2H114EA03
, 2H114GA03
, 2H114GA09
