特許
J-GLOBAL ID：200903095846640033
成形用型の再生方法及び光学素子の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-316150
公開番号（公開出願番号）：特開2004-123519
出願日： 2003年09月09日
公開日（公表日）： 2004年04月22日
要約：
【課題】成形用型母材表面にダメージを与えることなく、成形用型母材成形面の炭素系膜を的確に除去でき、かつコストと時間も抑制された再生方法を提供すること及びこの再生方法により再生された成形用型を用いたガラス光学素子の製造方法を提供すること。【解決手段】成形面に炭素系膜を有する成形用型から前記膜を除去することを含む、成形用型の再生方法。前記膜の除去を水素系ガスのプラズマによるエッチングまたはUVオゾン処理により行う。成形面に炭素系膜を有する成形型で、加熱軟化したガラス素材をプレス成形することを含むガラス光学素子の製造方法。前記成形型は、成形面に炭素系膜を有する成形型の前記膜を水素系ガスのプラズマによるエッチングまたはUVオゾン処理で除去し、次いで、膜が除去された成形面上に炭素系膜を成膜することで再生されたものである。【選択図】
請求項（抜粋）：
成形面に炭素系膜を有する成形用型から前記膜を除去することを含む、成形用型の再生方法であって、前記膜の除去を水素系ガスのプラズマによるエッチングまたはUVオゾン処理により行うことを特徴とする成形用型の再生方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
出願人引用 (3件)
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特開平2-38330号公報
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光学素子成形用型の再生方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平5-156402
出願人：キヤノン株式会社
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特許2505893号公報
審査官引用 (3件)
引用文献：
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