特許
J-GLOBAL ID:200903095955241009
熱処理装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
吉田 茂明
, 吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-399241
公開番号(公開出願番号):特開2005-005667
出願日: 2003年11月28日
公開日(公表日): 2005年01月06日
要約:
【課題】熱処理時の光照射によるシール部材の劣化を防止することができる熱処理装置を提供する。【解決手段】透光板61と熱処理チャンバーの本体部を構成する側板63との間にシール部材たるOリング17が挟み込まれている。側板63の上部にはフランジ10が設けられている。フランジ10はアルミニウム製であって、透光板61の上面周縁部を覆うように設けられている。一方、透光板61の下面周縁部はホーニング処理によって粗面化された遮光面61aとされている。比較的Oリング17に近いフラッシュランプ691からOリング17に向けて出射された閃光L1はフランジ10によって遮られる。一方、比較的Oリング17から遠いフラッシュランプ692からOリング17に向けて出射された閃光L2は、一旦透光板61に入射した後、粗面化された遮光面61aによって遮られる。【選択図】図3
請求項(抜粋):
基板に対して光を照射することによって該基板を加熱する熱処理装置であって、
ランプを有する光源と、
前記光源の下方に設けられ、前記光源から出射された光を透過するチャンバー窓を上部に備えるチャンバーと、
前記チャンバー内にて基板を略水平姿勢にて保持する保持手段と、
前記チャンバーに内設され、前記チャンバー内を気密状態に維持するシール部材と、
前記ランプから出射されて前記シール部材に向かう光を遮る遮光手段と、
を備えることを特徴とする熱処理装置。
IPC (3件):
H01L21/26
, H01L21/20
, H01L21/265
FI (3件):
H01L21/26 G
, H01L21/20
, H01L21/265 602B
Fターム (5件):
5F052AA24
, 5F052DA01
, 5F052DB01
, 5F052EA06
, 5F052FA05
引用特許:
出願人引用 (4件)
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熱処理装置及びその方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-187765
出願人:東京エレクトロン株式会社
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基板処理装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-144415
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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特開昭59-169125号公報
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特開昭63-166219号公報
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審査官引用 (3件)
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