特許

J-GLOBAL ID：200903095985017537

トリアジン化合物を含む反射防止組成物

発明者： 榎本 智之 ,  中山 圭介 ,  プリガッダ ラマ
出願人/特許権者： ブルーワー サイエンス アイ エヌ シー.
代理人 (2件)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-544764
公開番号（公開出願番号）：特表2006-503331
出願日： 2003年09月19日
公開日（公表日）： 2006年01月26日
要約：

【課題】本発明は、半導体デバイスの製造におけるリソグラフィー工程で使用された光の高い光吸収性を示し、高い反射光防止効果を示し、従来より、さらに薄いフィルム厚で使用され、 そして、フォトレジスト層に比べ、より大きいエッチング速度を有する反射防止膜用反射防止膜組成物を提供する。 【解決手段】本発明は、(A)ヒドロキシメチル基および/またはアルコキシメチル基で置換された、少なくとも二つの窒素原子を有するトリアジン化合物から製造された樹脂、および (B)光吸収化合物および/または光吸収樹脂から製造された樹脂を含むことを特徴とする反射防止膜組成物に関する。

請求項（抜粋）：

(A)ヒドロキシメチル基および/またはアルコキシメチル基で置換された、少なくとも二つの窒素原子を有するトリアジン化合物から製造された樹脂で、重量平均分子量が少なくとも5000の樹脂; および (B)光吸収化合物および/または光吸収樹脂 を含む反射防止膜組成物。

IPC (7件)：

G03F 7/11 ,  C08K 5/05 ,  C08K 5/09 ,  C08K 5/42 ,  C08L 61/26 ,  C08L 101/00 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G03F7/11 503 ,  C08K5/05 ,  C08K5/09 ,  C08K5/42 ,  C08L61/26 ,  C08L101/00 ,  H01L21/30 574

Fターム (41件)：

2H025AB16 ,  2H025DA34 ,  4J002BC03X ,  4J002BC123 ,  4J002BE043 ,  4J002BG013 ,  4J002BG03X ,  4J002BG07X ,  4J002BG073 ,  4J002CB00X ,  4J002CC04X ,  4J002CC043 ,  4J002CC18W ,  4J002CC19W ,  4J002CF00X ,  4J002CL00X ,  4J002EA066 ,  4J002EC036 ,  4J002EC046 ,  4J002EC066 ,  4J002EE036 ,  4J002EE056 ,  4J002EF037 ,  4J002EF096 ,  4J002EF097 ,  4J002EF116 ,  4J002EH126 ,  4J002EN066 ,  4J002EN076 ,  4J002EP017 ,  4J002EQ016 ,  4J002ES007 ,  4J002EU176 ,  4J002EU187 ,  4J002EV237 ,  4J002FD200 ,  4J002FD206 ,  4J002FD207 ,  4J002FD310 ,  4J002GT00 ,  5F046PA07

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 米国特許第5756255号
  
• 米国特許第5948847号
  
• 米国特許第6284428号
  
• 米国特許第2002/0055064号
  

審査官引用 (3件)

• リソグラフィー用下地材組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-018273   出願人：東京応化工業株式会社
• レジスト積層体及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-239590   出願人：東京応化工業株式会社
• 熱硬化性反射防止性コーティングおよびその製造方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平9-509244   出願人：ブリューアーサイエンスインコーポレイテッド