特許
J-GLOBAL ID：200903095997092089
液浸リソグラフィのための流体の供給装置及び方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
川北 喜十郎
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-525323
公開番号（公開出願番号）：特表2007-504662
出願日： 2004年07月16日
公開日（公表日）： 2007年03月01日
要約：
本発明の実施形態は、液浸リソグラフィの安定条件を提供するように、流体のフロー(流量)及び圧力を制御するシステム及び方法に関する。流体は、液浸リソグラフィプロセス中にレンズと基板との間の空間内に供給される。流体は前記空間に流体的に接続された多孔質部材を通じて該空間へ供給され、該空間から回収される。前記多孔質部材中の圧力を前記多孔質部材のバブルポイントより低く維持することにより、流体回収中に該流体に空気が混入することによって生じるノイズを解消することができる。一つの実施形態では、この方法は、回収流路を介し、多孔質部材を通じて前記空間から前記流体を引き出すことと、前記空間からの前記流体の引き出し中に前記多孔質部材中の流体の圧力を前記多孔質部材のバブルポイントより低く維持することとを備えている。
請求項（抜粋）：
液浸リソグラフィシステムにおいてレンズと基板との間の空間から流体を回収する方法であって、
回収流路を介し、多孔質部材を通じて前記空間から前記流体を引き出すことと、
前記空間から前記流体を引き出し中に前記多孔質部材内の前記流体の圧力を前記多孔質部材のバブルポイントより低く維持することと、
を備える方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (3件)：
5F046AA28
, 5F046CB01
, 5F046CB27
