特許
J-GLOBAL ID：200903062179474167
露光装置及び露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-185389
公開番号（公開出願番号）：特開2005-019864
出願日： 2003年06月27日
公開日（公表日）： 2005年01月20日
要約：
【課題】液浸法を適用した露光装置において、投影光学系の最終面と基板との間隙をより確実に液体で満たす。【解決手段】露光装置は、投影光学系4の周辺かつ前記投影光学系から見て第1方向に配置された液体供給ノズル5を備える。基板ステージ10が基板9を第1方向の反対方向である第2方向に向かって移動させる際に、液体供給ノズル5を通して基板9の表面上に液体が供給され該表面上に液膜fが形成される。ここで、基板9の移動に伴って液膜fが連続的に広がるように、液体供給ノズル5を通して基板9の表面上に液体が連続的に供給される。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
原版のパターンを投影光学系を介して基板に投影し転写する露光装置であって、
基板を保持し移動させる基板ステージと、
液体供給ノズルを有し前記基板の表面上に液体を供給して前記表面上に液膜を形成する液体供給部と、
を備え、前記液体供給ノズルは、前記投影光学系の周辺かつ前記投影光学系から見て第1方向に配置されており、
前記液体供給部は、前記基板ステージが前記基板を前記第1方向の反対方向である第2方向に向かって移動させる際に、前記基板の移動に伴って前記液膜が連続的に広がるように、前記液体供給ノズルを通して前記基板の表面上に液体を連続的に供給するように構成されていることを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 514C
, G03F7/20 521
5F046BA04
, 5F046CC01
, 5F046DA07
, 5F046DA27
