特許

J-GLOBAL ID：200903096028650925

真空紫外線リソグラフィーに用いられる投影レンズ用シリカガラス光学材料およびその製造方法ならびに投影レンズ

発明者： 山形 茂
出願人/特許権者： 信越石英株式会社
代理人 (1件)： 武田 正彦 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-332853
公開番号（公開出願番号）：特開2001-151531
出願日： 1999年11月24日
公開日（公表日）： 2001年06月05日
要約：

【要約】【課題】 波長155〜195 nmの真空紫外線に対して初期透過率が高く、高精度、高耐久性、均質性にも優れたシリカガラス光学材料およびその製造方法ならびに投影レンズを提供する。【解決手段】 本発明のシリカガラス光学材料は、波長155〜195 nmの真空紫外線リソグラフィーに用いられる投影レンズ用シリカガラス光学材料において、超高純度で、OH基を1〜10 wtppm、F を100〜10,000 wtppm、そしてH2 を1×1017〜1×1019分子/cm3含有し、F濃度分布が、中心軸について軸対称であることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

波長155〜195nmの真空紫外線リソグラフィーに用いられる投影レンズ用シリカガラス光学材料において、超高純度で、OH基を1〜10 wtppm、F を100〜10,000 wtppm、そしてH2 を1×1017〜1×1019分子/cm3含有し、F濃度分布が、中心軸について軸対称であることを特徴とするシリカガラス光学材料。

IPC (5件)：

C03C 3/06 ,  C03B 20/00 ,  G02B 1/02 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

C03C 3/06 ,  C03B 20/00 F ,  G02B 1/02 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/30 515 D

Fターム (15件)：

2H097CA13 ,  4G014AH15 ,  4G014AH21 ,  4G062AA04 ,  4G062BB02 ,  4G062CC07 ,  4G062MM02 ,  4G062MM35 ,  4G062MM36 ,  4G062NN16 ,  5F046AA06 ,  5F046AA07 ,  5F046BA07 ,  5F046CA04 ,  5F046CB12

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 真空紫外用石英ガラスの製造方法 および石英ガラス光学部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-170984   出願人：株式会社ニコン
• 合成石英ガラスおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-307783   出願人：旭硝子株式会社