レジストパターン形成方法および現像装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-164416
公開番号（公開出願番号）：特開平7-020637
出願日： 1993年07月02日
公開日（公表日）： 1995年01月24日
要約：

【要約】【目的】レジストパターン倒れを起こさないレジストパターン形成方法および現像装置を提供する。【構成】現像液で現像し、液体のリンス液で現像液をリンスした後、リンス液を固相化し昇華させる。あるいは、現像液で現像し、液体のリンス液で現像液をリンスした後、リンス液を液体の置換液で置換し、この置換液を固相化し、さらに昇華させる。【効果】レジストパターン、特に密集した微細なレジストパターンやアスペクト比の高いレジストパターンのパターン倒れを防止できる。

請求項（抜粋）：

レジスト膜に所望のパターンを露光する工程と、該レジスト膜を現像処理及びリンス処理する工程と、該リンス処理で付着したリンス液を固相化する工程と、該固相化したリンス液を昇華させることによりリンス液の乾燥を行う工程とを有することを特徴とするレジストパターン形成方法。

IPC (2件)：

G03F 7/30 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (6件)

レジスト現像方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-012184 出願人：日本電気株式会社
特開昭62-031122
特開平4-134350

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