ガスハイドレートの効率的製造方法及びガスハイドレート含有多孔質物質

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：池浦敏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-054324
公開番号（公開出願番号）：特開2001-240565
出願日： 2000年02月29日
公開日（公表日）： 2001年09月04日
要約：

【要約】【課題】生成誘導時間を解消することのできるガスハイドレートの製造方法を提供する。【解決手段】含水させた多孔質物質にハイドレート生成ガスを接触させる工程を含むことを特徴とする生成誘導時間を短縮させたガスハイドレートの製造方法。

請求項（抜粋）：

含水させた多孔質物質にハイドレート生成ガスを接触させる工程を含むことを特徴とする生成誘導時間を短縮させたガスハイドレートの製造方法。

IPC (5件)：

C07C 7/12 , C07C 7/20 , C07C 9/02 , C07C 9/04 , C10L 3/06

FI (5件)：

C07C 7/12 , C07C 7/20 , C07C 9/02 , C07C 9/04 , C10L 3/00 A

Fターム (6件)：

4H006AA01 , 4H006AA02 , 4H006AD17 , 4H006BE60 , 4H006DA44 , 4H006DA46

引用特許：

審査官引用 (3件)

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