特許
J-GLOBAL ID：200903096126187826

端面反射型表面波装置の製造方法

発明者：
門田 道雄

門田 道雄 について

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根来 泰宏

根来 泰宏 について

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堀内 秀哉

堀内 秀哉 について

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吾郷 純也

吾郷 純也 について


出願人/特許権者：
株式会社村田製作所

株式会社村田製作所 について


代理人 (1件)： 宮▼崎▲ 主税
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-264414
公開番号（公開出願番号）：特開2001-094374
出願日： 1999年09月17日
公開日（公表日）： 2001年04月06日
要約：
【要約】【課題】 反射端面を高精度に形成することができ、かつインターデジタル電極や圧電基板の損傷が生じ難く、良好な共振特性や帯域特性を実現し得る端面反射型表面波装置の製造方法を得る。【解決手段】 対向し合う一対の反射端面でSHタイプの表面波が反射される端面反射型表面波装置の製造に際し、マザー基板1の上面1a上にインターデジタル電極2A,2Bを形成し、溝5,6の形成が予定されているマザー基板1の上面部分のみを露出させた状態で、マザー基板1の上面をドライエッチングにより加工し、溝5,6を形成し、該溝5,6の少なくとも一方の側面を反射端面とし、溝5,6を形成した後にマザー基板1を厚み方向に機械的に切断して個々の端面反射型表面波装置を得る。
請求項（抜粋）：
対向し合う一対の反射端面でSHタイプの表面波が反射される端面反射型表面波装置の製造方法であって、マザー基板上に複数のインターデジタル電極を形成する工程と、マザー基板の上面に少なくとも一方の側面が反射端面を構成する溝をドライエッチングにより形成する工程と、前記溝の形成後にマザー基板を厚み方向に機械的に切断して個々の端面反射型表面波装置を得る工程とを備えることを特徴とする、端面反射型表面波装置の製造方法。
IPC (3件)：
H03H 3/08 ,  H01L 21/301 ,  H03H 9/145
FI (4件)：
H03H 3/08 ,  H03H 9/145 Z ,  H01L 21/78 S ,  H01L 21/78 F
Fターム (11件)：
5J097AA28 ,  5J097AA29 ,  5J097AA31 ,  5J097BB02 ,  5J097EE03 ,  5J097FF03 ,  5J097GG07 ,  5J097HA07 ,  5J097HA08 ,  5J097HA10 ,  5J097KK09
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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