特許
J-GLOBAL ID：200903096176754721

磁気記録媒体の製造方法および製造装置

発明者：
森脇 健一

森脇 健一 について

, 
中田 純司

中田 純司 について

, 
臼杵 一幸

臼杵 一幸 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-183849
公開番号（公開出願番号）：特開2005-259325
出願日： 2004年06月22日
公開日（公表日）： 2005年09月22日
要約：
【課題】可撓性高分子支持体上にスパッタフレークが付着せず、支持体搬送時の垂れ下がりやキズの発生しない製造方法および製造装置により、安価な高性能高信頼性高容量磁気記録媒体を提供する。【解決手段】可撓性高分子支持体4は、巻きだしロール3から巻き出され、最大高さRzが0.01〜0.4μmの表面性を有する成膜ロール8に沿った状態でスパッタ法により磁性層が形成された後、巻き取りロール10で巻き取られるまでの工程が、全て真空中で鉛直方向に維持した状態で搬送されることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。前記巻きだしロール3、成膜ロール8、及び巻き取りロール10を含む支持体搬送手段と、成膜ロール8に沿った状態で磁性層を形成するように備えられたスパッタ装置9を少なくとも含む真空成膜装置であって、前記支持体搬送手段は支持体を鉛直方向に維持した状態で搬送する構成である磁気記録媒体の製造装置。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
可撓性高分子支持体の少なくとも一方の面に、少なくとも磁性層を形成する磁気記録媒体の製造方法において、前記支持体は、巻きだしロールから巻き出され、最大高さRzが0.01〜0.4μmの表面性を有する成膜ロールに沿った状態でスパッタ法により少なくとも磁性層が形成された後、巻き取りロールで巻き取られるまでの工程が、全て真空中で鉛直方向に維持した状態で搬送されることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
IPC (4件)：
G11B5/851 ,  C23C14/34 ,  C23C14/56 ,  G11B5/78
FI (4件)：
G11B5/851 ,  C23C14/34 P ,  C23C14/56 B ,  G11B5/78
Fターム (19件)：
4K029AA11 ,  4K029AA25 ,  4K029BA24 ,  4K029BC06 ,  4K029BD11 ,  4K029CA05 ,  4K029KA03 ,  5D006DA00 ,  5D006DA02 ,  5D006EA03 ,  5D006FA00 ,  5D112AA03 ,  5D112AA05 ,  5D112AA22 ,  5D112AA24 ,  5D112BB01 ,  5D112FA04 ,  5D112FB25 ,  5D112KK03
引用特許：
出願人引用 (6件)
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