特許
J-GLOBAL ID:200903096187337626
蛍光X線分析装置
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
杉本 修司
, 野田 雅士
, 堤 健郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-199527
公開番号(公開出願番号):特開2004-045064
出願日: 2002年07月09日
公開日(公表日): 2004年02月12日
要約:
【課題】簡単な構成で、試料における任意の部位について分析できる蛍光X線分析装置を提供する。【解決手段】試料1 を収納した試料ホルダ3 に設けられた基準識別部2Aを基準として指定された試料1 の部位にX線源4 から1次X線24を照射して、発生する蛍光X線25の強度を検出手段5 で測定する蛍光X線分析装置において、前記検出手段5 を用いて前記基準識別部2Aの位置を検出する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
試料を収納した試料ホルダまたは試料に設けられた基準識別部を基準として指定された試料の部位にX線源から1次X線を照射して、発生する蛍光X線の強度を検出手段で測定する蛍光X線分析装置において、
前記検出手段を用いて前記基準識別部の位置を検出することを特徴とする蛍光X線分析装置。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (17件):
2G001AA01
, 2G001BA04
, 2G001BA14
, 2G001CA01
, 2G001DA02
, 2G001GA01
, 2G001GA04
, 2G001GA13
, 2G001JA08
, 2G001KA01
, 2G001LA11
, 2G001MA05
, 2G001PA01
, 2G001PA06
, 2G001PA12
, 2G001QA01
, 2G001QA02
引用特許: