特許
J-GLOBAL ID:200903096188839617
イメージセンサ
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
船橋 國則
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-033230
公開番号(公開出願番号):特開平9-232555
出願日: 1996年02月21日
公開日(公表日): 1997年09月05日
要約:
【要約】【課題】 画素間クロストークの発生を避けるために、N型の半導体基板に設けたP型のウエル層に受光部となるN+ 型の不純物層を形成すると、P型のウエル層とN+ 型の不純物層との接合容量が増加して検出感度を低下させていた。【解決手段】 第1導電型(N型)の半導体基板11に設けた第2導電型(P型)のウエル層12に第1導電型の受光部となるN+ 型の不純物層13を形成したイメージセンサ1 において、N+ 型の不純物層13とP型のウエル層12との間に、N+ 型の不純物層13よりも不純物濃度が低くかつN+ 型の不純物層13の下部側に接続するN- 型の不純物層14を備えたものである。またはP型のウエル層12よりも不純物濃度が低くかつN+ 型の不純物層13の下部側に接合するP型の不純物層(図示省略)を備えてもよい。
請求項(抜粋):
第1導電型の半導体基板に設けた第2導電型のウエル層に第1導電型の受光部を形成したイメージセンサにおいて、前記第1導電型の受光部と前記第2導電型のウエル層との間に、該第1導電型の受光部よりも不純物濃度が低くかつ該第1導電型の受光部の下部側に接続する第1導電型の不純物層を備えたことを特徴とするイメージセンサ。
IPC (3件):
H01L 27/146
, H01L 31/10
, H04N 5/335
FI (3件):
H01L 27/14 A
, H04N 5/335 E
, H01L 31/10 A
引用特許:
審査官引用 (5件)
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固体撮像装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-308947
出願人:日本電気株式会社
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特開平4-260369
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縦形オーバーフローイメージセンサーの製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-120667
出願人:ソニー株式会社
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特開平4-260369
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特開平4-260369
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