特許

J-GLOBAL ID：200903096195274269

反射防止膜及びこれを有する撮像系光学素子

発明者： 山田 和広 ,  坂井 康弘 ,  中山 寛之 ,  山田 眞希
出願人/特許権者： ペンタックス株式会社
代理人 (1件)： 高石 橘馬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-001786
公開番号（公開出願番号）：特開2006-215542
出願日： 2006年01月06日
公開日（公表日）： 2006年08月17日
要約：

【課題】 広い波長域の幅広い入射角の光線に対して優れた反射防止特性を有し、かつ十分な機械的強度を有する反射防止膜、及びその反射防止膜を有する撮像系光学素子を提供する。【解決手段】 基材1の表面11に順に緻密層21及びシリカエアロゲル多孔質層22を形成してなり、基材1及び各層21及び22の屈折率が基材1から順に小さくなっている反射防止膜2は、入射角が0〜60°の光線に対する視感反射率が2%以下であり、耐擦傷性にも優れている。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基材の表面に順に形成された緻密層及びシリカエアロゲル多孔質層からなり、屈折率が前記基材から前記シリカエアロゲル多孔質層まで順に小さくなっていることを特徴とする反射防止膜。

IPC (3件)：

G02B 1/11 ,  B32B 9/00 ,  B32B 7/02

FI (3件)：

G02B1/10 A ,  B32B9/00 A ,  B32B7/02 103

Fターム (26件)：

2K009AA02 ,  2K009CC03 ,  2K009CC06 ,  2K009CC09 ,  2K009CC26 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  4F100AA01C ,  4F100AA20B ,  4F100AA20C ,  4F100AG00 ,  4F100AH06B ,  4F100AK01C ,  4F100AK52B ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100DE01C ,  4F100DJ00B ,  4F100EH66C ,  4F100EJ41B ,  4F100GB41 ,  4F100JN06 ,  4F100JN18

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 反射防止膜及び光学部品
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-231044   出願人：オリンパス光学工業株式会社
• 広帯域反射防止膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-028838   出願人：株式会社ニコン
• 光透過シート、これを用いた発光装置、及び、光透過シートの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-314766   出願人：松下電工株式会社