特許
J-GLOBAL ID：200903096232749388

ステレオ対応づけのための投光パターンの生成装置及び生成方法

発明者：
諏訪 正樹

諏訪 正樹 について

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光本 大輔

光本 大輔 について

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麻生川 佳誠

麻生川 佳誠 について


出願人/特許権者：
オムロン株式会社

オムロン株式会社 について


代理人 (2件)： 増井 義久 ,  比村 潤相
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-200927
公開番号（公開出願番号）：特開2007-017355
出願日： 2005年07月08日
公開日（公表日）： 2007年01月25日
要約：
【課題】 ステレオ法におけるステレオ対応づけのために計測対象に対して投光するパターンとして、より適切なパターンの生成を実現する。【解決手段】 パターン生成装置22は、M値(Mは2以上の整数)の数値を項とする数列を生成する数列生成部22aと、数列生成部22aによって生成された数列の各数値を、当該各数値に応じた階調値に変換することにより画像データを生成する画像データ生成部22bとを備える。数列生成部22aは、生成する数列を構成する所定長の部分数列について、当該各部分数列によって表されるベクトルが互いに方向の異なるベクトルとなるように、上記数列を生成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
ステレオ法におけるステレオ対応づけのために計測対象に対して投光するパターンの画像データを生成するパターン生成装置において、 M値(Mは2以上の整数)の数値を項とする数列を生成する数列生成手段と、 前記数列生成手段によって生成された数列の各数値を、当該各数値に応じた階調値に変換することにより前記画像データを生成する画像データ生成手段とを備え、 前記数列生成手段は、生成する数列を構成する所定長の部分数列について、当該各部分数列によって表されるベクトルが互いに方向の異なるベクトルとなるように、前記数列を生成することを特徴とするパターン生成装置。
IPC (6件)：
G01B 11/24 ,  G01B 11/245 ,  G01B 11/00 ,  G01C 3/06 ,  G06T 1/00 ,  G01B 11/25
FI (6件)：
G01B11/24 K ,  G01B11/24 N ,  G01B11/00 H ,  G01C3/06 V ,  G06T1/00 315 ,  G01B11/24 E
Fターム (30件)：
2F065AA06 ,  2F065AA53 ,  2F065BB07 ,  2F065FF05 ,  2F065FF09 ,  2F065HH07 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065LL21 ,  2F065PP25 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ38 ,  2F065QQ42 ,  2F065UU01 ,  2F112AC06 ,  2F112BA06 ,  2F112CA04 ,  2F112CA12 ,  2F112FA21 ,  2F112FA36 ,  2F112FA45 ,  5B057AA20 ,  5B057BA02 ,  5B057BA29 ,  5B057DA20 ,  5B057DB03 ,  5B057DB05 ,  5B057DB09 ,  5B057DC30 ,  5B057DC32
引用特許：
出願人引用 (2件)

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