特許
J-GLOBAL ID：200903096295761876

塗布、現像装置及び塗布、現像方法並びにコンピュータプログラム

発明者：
石田 省貴

石田 省貴 について

, 
山本 太郎

山本 太郎 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (2件)： 井上 俊夫 ,  水野 洋美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-355285
公開番号（公開出願番号）：特開2007-158260
出願日： 2005年12月08日
公開日（公表日）： 2007年06月21日
要約：
【課題】基板にレジスト膜を形成し、液浸露光した後の基板に対して現像処理を行う装置において、液浸露光により基板上に残留する水滴によるレジストパターンの解像に対する悪影響を抑えること。【解決手段】基板に付着した液滴はある時間が経つと、そのサイズが急激に小さくなり、このとき基板のレジスト膜に変質層(ウオータマーク)が形成されることに着眼し、液浸露光後に液滴のサイズが急激に小さくなっていく時間帯に入る前の時間帯にて基板が洗浄部で洗浄されるように基板の搬送制御を行う。具体的には露光装置から搬出準備信号が出力されたときに、インターフェイス部の基板搬送手段が他の搬送作業に優先して搬送ステージ上の基板を洗浄部に搬送する。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
基板にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成し、露光装置にて液浸露光された後の基板に対して加熱部にて加熱処理した後、現像処理部にて現像処理を行う塗布、現像装置において、 液浸露光後の基板の表面を洗浄する洗浄部と、 この洗浄部に液浸露光後の基板を受け渡す第1の基板搬送手段と、 液浸露光の終了時点からの経過時間と液浸露光時に基板に残留する液滴のサイズとの関係において、液滴のサイズが急激に小さくなっていく時間帯に入る前の時間帯にて基板が洗浄部で洗浄されるように前記基板搬送手段による基板の搬送制御を行う制御部と、を備えたことを特徴とする塗布、現像装置。
IPC (5件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/30 ,  B05C 9/12 ,  B05C 9/14 ,  B05C 13/02
FI (7件)：
H01L21/30 562 ,  H01L21/30 568 ,  H01L21/30 575 ,  G03F7/30 502 ,  B05C9/12 ,  B05C9/14 ,  B05C13/02
Fターム (20件)：
2H096AA25 ,  2H096CA14 ,  2H096GA29 ,  4F042AA06 ,  4F042AA07 ,  4F042BA01 ,  4F042CC04 ,  4F042CC09 ,  4F042DA01 ,  4F042DB01 ,  4F042DF25 ,  4F042DF29 ,  4F042EB09 ,  4F042EB17 ,  4F042EB21 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046JA22 ,  5F046LA18 ,  5F046LA19
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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