特許

J-GLOBAL ID：200903096381616544

水処理システム

発明者： 米田 剛 ,  真鍋 敦行 ,  松友 伸司 ,  渡邉 隼人
出願人/特許権者： 三浦工業株式会社 ,  株式会社三浦プロテック
代理人 (3件)： 大塚 明博 ,  小林 保 ,  小島 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-159821
公開番号（公開出願番号）：特開2006-334470
出願日： 2005年05月31日
公開日（公表日）： 2006年12月14日
要約：

【課題】 給水の水温変動があっても、水処理部を通過した給水について、所定の水質を得ることができる水処理システムを実現する。【解決手段】 ボイラ2への給水の水処理部4を備える水処理システム1であって、給水の温度検出手段として温度センサ6を備え、この温度センサ6の検出値に基づいて、前記水処理部4を通過した給水について、所定の水質が得られるように前記水処理部4の運転を制御することを特徴とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

機器への給水の水処理部を備える水処理システムであって、 給水の温度検出手段を備え、この温度検出手段の検出値に基づいて、前記水処理部を通過した給水について、所定の水質が得られるように前記水処理部の運転を制御する ことを特徴とする水処理システム。

IPC (1件)：

C02F 1/00

FI (1件)：

C02F1/00 T

引用特許：

出願人引用 (1件)

• ボイラシステム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-087015   出願人：三浦工業株式会社

審査官引用 (2件)

• 給水温度によって薬品による脱気を併用する膜脱気装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-340609   出願人：株式会社サムソン
• 特開平3-284323