特許
J-GLOBAL ID:200903096438814283

光学素子、光学装置の光学系、光学素子の製造方法、光学素子の複屈折算出方法及び複屈折判定方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-097973
公開番号(公開出願番号):特開平11-326189
出願日: 1998年04月09日
公開日(公表日): 1999年11月26日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】複屈折の最小方向を選択できる光学素子の複屈折算出方法及び複屈折判定方法、複屈折が小さい光学素子、光学装置の収差が小さい光学系、複屈折が小さい光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】既知のピエゾ光学定数を任意の3次元直交座標系におけるピエゾ光学定数に変換し座標軸方向における屈折率変化量△n1と、座標軸方向に直交する方向における屈折率変化量△n2とを算出し、屈折率変化量△n1と屈折率変化量△n2との差より第1方向及び第2方向に直交する第3方向からみた複屈折の量を任意の3次元直交座標系において求める光学素子又は光学素子用素材の複屈折量算出方法。
請求項(抜粋):
少なくとも、光学素子または光学素子用素材を構成する光学材料にかかる既知のピエゾ光学定数(即ち、特定の3次元直交座標系におけるピエゾ光学定数)を任意の3次元直交座標系におけるピエゾ光学定数に変換する過程と、前記任意の3次元直交座標系の一つの座標軸方向に沿って前記光学素子または光学素子用素材に付与する一軸応力と前記過程にて求めた任意の3次元座標系におけるピエゾ光学定数を用いて、前記座標軸方向(第1方向)における屈折率変化量△n1と、前記座標軸方向に直交する第2方向における屈折率変化量△n2とを算出する過程と、前記屈折率変化量△n1と前記屈折率変化量△n2との差を求めることにより、前記第1方向及び第2方向に直交する第3方向からみた複屈折の量を前記任意の3次元直交座標系において求める過程と、を有する光学素子または光学素子用素材の複屈折量算出方法。
IPC (3件):
G01N 21/23 ,  G02B 1/02 ,  G02B 5/30
FI (3件):
G01N 21/23 ,  G02B 1/02 ,  G02B 5/30
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 光リソグラフィー用蛍石
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-134720   出願人:株式会社ニコン, 応用光研工業株式会社
  • 赤外線観察装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-237250   出願人:日本電信電話株式会社

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