特許
J-GLOBAL ID:200903096493810831
レーザー捕捉顕微解剖法と装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中村 稔 (外9名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-534945
公開番号(公開出願番号):特表2001-526795
出願日: 1998年02月05日
公開日(公表日): 2001年12月18日
要約:
【要約】レーザー捕捉顕微解剖のためのシステムと方法を開示する。レーザー捕捉顕微解剖の方法は、レーザー捕捉顕微解剖を受けるサンプルを提供する段階と、前記サンプルをレーザー捕捉顕微解剖器械の光学軸内に配置する段階と、基板表面と前記基板表面に連結されたレーザー捕捉顕微解剖トランスファフィルムを有するトランスファフィルムキャリアを提供する段階と、前記サンプルの残余部分の前記レーザー捕捉顕微解剖フィルムへの不的確な移動を引き起こすことなく、前記サンプルの一部を前記レーザー捕捉顕微解剖トランスファフィルムへレーザー捕捉顕微解剖移動させるのに十分な圧力で、前記レーザー捕捉顕微解剖トランスファフィルムを前記サンプルと並置する段階と、次に前記サンプルの残余部分の前記レーザー捕捉顕微解剖トランスファフィルムへの不的確な移動を引き起こすことなく前記サンプルの一部を前記レーザー捕捉顕微解剖トランスファフィルムへ移す段階とを含む。本システム及び方法は、スピードが早くなり、汚染がかなり少なくなるという利点を提供する。
請求項(抜粋):
サンプルをレーザー捕捉顕微解剖器械の光学軸内に配置する段階と、レーザ ー捕捉顕微解剖トランスファフィルムを前記サンプルと並置する段階と、前記 サンプルの一部を前記レーザー捕捉顕微解剖トランスファフィルムに移す段階 とから成ることを特徴とするレーザー捕捉顕微解剖法。
IPC (4件):
G02B 21/34
, G01N 1/28
, G02B 21/26
, G02B 21/32
FI (5件):
G02B 21/34
, G02B 21/26
, G02B 21/32
, G01N 1/28 U
, G01N 1/28 J
引用特許:
審査官引用 (6件)
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蛍光走査型プローブ顕微鏡
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-188065
出願人:工業技術院長, オリンパス光学工業株式会社
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特開平1-164911
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特開昭63-280210
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特開昭63-280209
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落射蛍光顕微鏡
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-059948
出願人:株式会社ニコン
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微小領域化学反応制御方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-328611
出願人:理化学研究所
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