特許
J-GLOBAL ID：200903096504071076

開水路用紫外線消毒装置

発明者：
石山 栄一

石山 栄一 について


出願人/特許権者：
株式会社日本フォトサイエンス

株式会社日本フォトサイエンス について


代理人 (1件)： 飯塚 義仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-206666
公開番号（公開出願番号）：特開2001-029948
出願日： 1999年07月21日
公開日（公表日）： 2001年02月06日
要約：
【要約】【課題】 開水路を流れる処理水量の変動の影響を受けることなく、安定した消毒機能を果たすことができるようにする。【解決手段】 1又は複数個の紫外線ランプ1を具備する紫外線照射モジュールM1であって、該モジュールの上部の所定位置に密閉板7を設けてなるものを、設置する開水路5の幅に合わせて1又は複数個配置する。少なくとも密閉板7の高さを越える水位の水を止めるように、開水路5の幅に合わせた1対の止水板9を、該モジュールの前後に配置し、処理水を止水板9で止めて紫外線照射モジュールの密閉板7の下を通るようにし、安定した紫外線照射を行う。紫外線照射モジュールの所定位置に密閉板を設けてなるため、モジュールを開水路内に設置することで自動的に密閉板が所定位置が設定される。適用する開水路の幅に合わせて任意数のモジュールを併設することができ、汎用性がある。
請求項（抜粋）：
1又は複数個の紫外線ランプを具備する紫外線照射モジュールであって、該モジュールの上部の所定位置に密閉板を設けてなるものを、設置する開水路の幅に合わせて1又は複数個配置し、少なくとも前記密閉板の高さを越える水位の水を止めるように、前記開水路の幅に合わせた1対の止水板を、前記1又は複数個の紫外線照射モジュール配置の前後に配置してなり、前記開水路を流れる水を前記止水板で止めて前記紫外線照射モジュールの密閉板の下を通るようにしたことを特徴とする開水路用紫外線消毒装置。
IPC (2件)：
C02F 1/32 ZAB ,  E03F 5/18
FI (2件)：
C02F 1/32 ZAB ,  E03F 5/18
Fターム (5件)：
4D037AA11 ,  4D037AB03 ,  4D037BA18 ,  4D037BB04 ,  4D037CA07
引用特許：
審査官引用 (2件)

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