特許
J-GLOBAL ID：200903096547626985
基板端縁処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小谷 悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-298732
公開番号（公開出願番号）：特開平9-139339
出願日： 1995年11月16日
公開日（公表日）： 1997年05月27日
要約：
【要約】【課題】 基板の裏面側端縁に残留する液滴を確実に除去することができるようにする。【解決手段】 基板Bを水平姿勢で保持する基板支持機構3と、この基板支持機構3に保持された基板Bの表面側端縁に向けて洗浄液を吐出する洗浄液吐出口53bを備えた洗浄液吐出ノズル53aと、基板Bの表面側縁部に供給された洗浄液を吸引して系外に排出する長尺開口58を備えた吸引管52と、基板Bの裏面側端縁に付着した洗浄液を外方に吹き飛ばすガス噴射口54bを備えたガス噴射ノズル54aと、上記洗浄液吐出ノズル53aおよび上記ガス噴射ノズル54aを基板B表裏の側端縁に近接させて支持するノズルデッキ51とを有し、洗浄液吐出ノズル53aにより洗浄液を吐出した後にガス噴射ノズル54aによりガスを噴射するように制御する制御手段が備えられている。
請求項（抜粋）：
表面に薄膜が形成された基板の端縁の不要薄膜を除去する基板端縁処理装置において、基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、基板保持手段に保持された基板の端縁に向けて洗浄液を吐出する洗浄液吐出ノズルと、基板の端縁に供給された洗浄液を吸引する吸引手段と、基板の端縁に付着した洗浄液を基板の端縁より外方に吹き飛ばすガス噴射ノズルと、上記吸引手段の吸引動作状態で洗浄液吐出ノズルにより洗浄液を吐出した後にガス噴射ノズルによりガスを噴射するように制御する制御手段と、を有していることを特徴とする基板端縁処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, H01L 21/304 341
H01L 21/30 577
, H01L 21/304 341 N
