プロセスガスの脱臭処理システムにおける静圧制御装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木征四郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-239357
公開番号（公開出願番号）：特開2001-065464
出願日： 1999年08月26日
公開日（公表日）： 2001年03月16日
要約：

【要約】【課題】脱臭装置側の圧力変動がプロセス側に影響しないようにすると共に、プロセス側の変化による圧力変動がプロセス側に影響しないように、クッションチャンバー内の静圧制御を安定して行うことができるプロセスガスの脱臭処理システムにおける静圧制御装置を提供する。【解決手段】プロセス装置1から発生するプロセスガスをクッションチャンバー3内に導入し、該クッションチャンバー3内に導入されたプロセスガスの静圧を検知して該静圧が一定となるように吸引ファン5により制御すると共に、該クッションチャンバー3のガス吸込口からプロセスガスを吸引ファン5により吸引して脱臭装置7に送り、脱臭処理するプロセスガスの脱臭処理システムにおいて、上記クッションチャンバー3のガス吸込口3d下流側のクッションチャンバー3に大気開放口3fを設ける。

請求項（抜粋）：

プロセス装置から発生するプロセスガスをクッションチャンバー内に導入し、該クッションチャンバー内に導入されたプロセスガスの静圧を検知して該静圧が一定となるように吸引ファンにより制御すると共に、該クッションチャンバーのガス吸込口からプロセスガスを吸引ファンにより吸引して脱臭装置に送り、脱臭処理するプロセスガスの脱臭処理システムにおいて、上記クッションチャンバーのガス吸込口下流側のクッションチャンバーに大気開放口を設けることを特徴とする静圧制御装置。

IPC (6件)：

F04B 49/06 341 , B01D 53/34 ZAB , B01D 53/44 , B01D 53/74 , F04D 27/00 101 , F04D 27/00

FI (6件)：

F04B 49/06 341 G , F04D 27/00 101 N , F04D 27/00 101 E , F04D 27/00 101 J , B01D 53/34 ZAB , B01D 53/34 117 E

Fターム (27件)：

3H021AA01 , 3H021BA05 , 3H021CA02 , 3H021DA06 , 3H021DA10 , 3H021DA12 , 3H021DA26 , 3H045AA06 , 3H045AA12 , 3H045AA25 , 3H045BA22 , 3H045BA36 , 3H045CA02 , 3H045CA29 , 3H045DA07 , 3H045EA34 , 4D002AB02 , 4D002AB03 , 4D002AC10 , 4D002BA04 , 4D002CA07 , 4D002GA01 , 4D002GA02 , 4D002GA03 , 4D002GB01 , 4D002GB04 , 4D002GB20

引用特許：

審査官引用 (4件)

ガス清浄化方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-008513 出願人：株式会社日本触媒
ごみストッカーのにおい漏れ防止機構と周辺装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-148445 出願人：株式会社ペンタグラム
特開昭51-007765

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