特許
J-GLOBAL ID:200903096721765639

高周波用誘電体セラミックスおよびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-290429
公開番号(公開出願番号):特開平10-045472
出願日: 1996年10月31日
公開日(公表日): 1998年02月17日
要約:
【要約】高周波用誘電体セラミックスは、形状が大型になるに従い、Q値が著しく低下するという問題点があった。【解決手段】周波数100MHzからGHz帯で使用される最小厚みが20mm以上の誘電体セラミックスの製造方法であって、セラミック原料粉末を所定形状に成形した後、該成形体にマイクロ波を照射し加熱焼結して、Q×f値(f:測定周波数(GHz) 、Q:品質係数)が10,000以上、セラミックスの表層部から切り出した直径10mm、厚み5mmの円柱体のQ×f値をX1 とし、該セラミックスの中心部から切り出した直径10mm、厚み5mmの円柱体のQ×f値をX2 としたとき、X2 /X1 で表される比率が0.8以上のセラミックスを得る。
請求項(抜粋):
最小厚みが20mm以上のQ×f値(f:測定周波数(GHz) 、Q:品質係数)が10,000以上の誘電体セラミックスであって、該セラミックスの表層部から切り出した直径10mm、厚み5mmの円柱体のQ×f値をX1とし、該セラミックスの中心部から切り出した直径10mm、厚み5mmの円柱体のQ×f値をX2 としたとき、X2 /X1 で表される比率が0.8以上であることを特徴とする高周波用誘電体セラミックス。
IPC (3件):
C04B 35/495 ,  C04B 35/64 ,  H01P 7/10
FI (3件):
C04B 35/00 J ,  H01P 7/10 ,  C04B 35/64 F
引用特許:
審査官引用 (3件)

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