特許
J-GLOBAL ID：200903096723342786

真空熱処理装置

発明者：
平本 昇

平本 昇 について


出願人/特許権者：
株式会社日本ヘイズ

株式会社日本ヘイズ について


代理人 (1件)： 柳田 征史 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-381296
公開番号（公開出願番号）：特開2003-183728
出願日： 2001年12月14日
公開日（公表日）： 2003年07月03日
要約：
【要約】【課題】 真空熱処理装置において、複数の処理セルの中の1つの処理セルから他の処理セルまで短時間で移動させ、また、設置場所を増加させずに処理セルを増設できるようにする。【解決手段】 真空熱処理装置1は、気密チャンバー2とこの中に配置された搬送機構51と、気密チャンバー2の外周に、気密加熱室4、6、ガス冷却室8、準備室10、気密油焼入室12の各処理セルが配設されている。これらの気密チャンバー2、処理セル4、6、8、10の少なくとも一方は、上下方向に2段以上に配設することができる。気密加熱室4、6で加熱された処理物は、搬送機構51によりガス冷却室8或いは、気密油焼入室12に短時間で搬送されて焼き入れされる。どの処理セルからも短時間で焼き入れのための移送が可能となる。処理セルを増設する場合は、気密チャンバー2の外周に複数段に取付けられるので、省スペースとなる。
請求項（抜粋）：
処理物を処理セル内で熱処理する真空熱処理装置において、装置中央に配置された気密チャンバーと、該気密チャンバーの外周に配設された複数の処理セルとを備え、前記気密チャンバー内に、前記複数の処理セルとの間で前記処理物を移動させる搬送機構が設けられていることを特徴とする真空熱処理装置。
FI (2件)：
C21D 1/773 J ,  C21D 1/773 D
引用特許：
審査官引用 (4件)
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