特許
J-GLOBAL ID：200903014961192893
浸炭焼入焼戻方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿仁屋 節雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-078108
公開番号（公開出願番号）：特開平10-053809
出願日： 1997年03月28日
公開日（公表日）： 1998年02月24日
要約：
【要約】【課題】 オンライン機械加工製造システムの一工程として浸炭処理を組み入れることを可能にすると共に、個々の熱処理品質にばらつきのない高品質の処理が可能な浸炭焼入焼戻方法及び浸炭焼入焼戻装置を提供する。【解決手段】 搬送装置12を有する中間室4の周囲に、1つの予熱室2、6つの浸炭室5a〜5f、冷却室6、再加熱室7、焼入室8及び焼戻室10を配置し、また、各主要な処理室の加熱には高周波誘導加熱を用いると共に、浸炭室ではプラズマ浸炭を行うようにして、機械加工製造ラインから次々と搬入される被処理物を各処理室に振り分けて処理することによってよどみなく浸炭焼入焼戻処理ができるようにした。
請求項（抜粋）：
被処理物を浸炭温度にする予熱工程と、予熱後に浸炭温度で被処理物を浸炭する浸炭工程と、浸炭後に被処理物を焼き入れする焼入工程と、焼入後に被処理物を焼き戻しする焼戻工程とを含む工程を有する浸炭焼入焼戻方法であって、前記被処理物は物品の機械加工製造ライン上で供給されるものであり、前記浸炭焼入焼戻方法における各工程は前記機械加工製造ラインで供給される被処理物の供給速度にあわせて前記機械加工製造ラインの流れを実質的に止めることなく行われるようにしたことを特徴とする浸炭焼入焼戻方法。
IPC (6件)：
C21D 1/06
, C21D 1/10
, C21D 1/74
, C21D 1/773
, C23C 8/22
, F27B 9/02
C21D 1/06 A
, C21D 1/10 U
, C21D 1/74 U
, C21D 1/773 G
, C21D 1/773 J
, C23C 8/22
, F27B 9/02
