特許
J-GLOBAL ID：200903096761190477

リソグラフィ装置およびデバイス製造方法

発明者：
フランシスカス マルティネス ロエス

フランシスカス マルティネス ロエス について


出願人/特許権者：
エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ

エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ について


代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  森 徹 ,  吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-151648
公開番号（公開出願番号）：特開2004-047981
出願日： 2003年04月22日
公開日（公表日）： 2004年02月12日
要約：
【課題】追加のフォーサや増幅器を用いずにピッチトルクの補正を可能にする、リソグラフィ装置において用いるデバイス製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】本来ピッチトルクがもたらされない平面モータに対してピッチトルク補正を行う手段を提供する。平面モータにおける各フォーサによって付加される、理想的に必要とされる所定の力のセットに対してピッチトルクが計算されて、合計される。修正の実質効果が前に決定されたピッチトルクに等しく、かつ反対になるように各フォーサにおける修正の力が決定される。【選択図】 図7
請求項（抜粋）：
放射線感光材料の層により少なくとも部分的に覆われた基板を提供するステップと、放射線システムを用いて放射線の投影ビームを供給するステップと、パターニング手段を用いて投影ビームのその断面にパターンを与えるステップと、放射線感光材料の層の目標部分に放射線のパターン化されたビームを投影するステップと、平面モータの可動部分に所定方向における少なくとも1つのプライマリーフォースを作り出し、かつ、プライマリーフォースと連動して少なくとも1つの擬似トルクを各々が作り出す複数のコイルのセットによって構成された平面モータにより基板とパターニング手段のうちの1つを位置決めするステップと、そして、平面モータの位置決めを行うために必要なプライマリーフォースを決定するステップとから成るデバイス製造方法において、修正の結果により平面モータの可動部分における擬似トルクの和を少なくとも部分的に補正するよう、必要とされるプライマリーフォース各々に対する修正を決定するステップと、修正を含んだプライマリーフォースをもたらすべくコイルのセットに制御信号を供給するステップを有することを特徴とするデバイス製造方法。
IPC (1件)：
H01L21/027
FI (1件)：
H01L21/30 516B
Fターム (7件)：
5F046BA03 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC03 ,  5F046CC05 ,  5F046CC13 ,  5F046CC17
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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