特許
J-GLOBAL ID：200903096769952724

液体金属溶液及び溶液中のナノサイズ粒子から生成されたレーザプラズマから生成されるEUV、XUV、及びX線波長源

発明者：
リチャードソン、マーティン

リチャードソン、マーティン について


出願人/特許権者：
ユニバーシティ・オブ・セントラル・フロリダ

ユニバーシティ・オブ・セントラル・フロリダ について


代理人 (1件)： 大島 陽一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-548511
公開番号（公開出願番号）：特表2004-515884
出願日： 2001年10月19日
公開日（公表日）： 2004年05月27日
要約：
高出力レーザにより照射されたプラズマ化され、点源であるEUV、XUV、及びX線源を生成する特殊な液滴ターゲット。液滴ターゲットには様々な種類があり、その中にはレーザ点源標的液滴として用いられる金属溶液、並びに一部或いは全ての構成金属よりも融点の低い溶液中のナノサイズ粒子が含まれる。このような溶液は、損傷を与えるようなデブリを有しておらず、約0.1nm〜約100nm、約11.7、約13nm、約0.5nm〜約1.5nm、及び約2.3nm〜約4.5nmのスペクトル範囲のX線、XUV、およびEUV(極紫外線)のプラズマ放射を生成することができる。ターゲットの種類には、混和性液体として様々な金属及び非金属材料の様々なナノサイズ粒子を含む様々な種類の液体がある。
請求項（抜粋）：
ターゲットソースから光放射を生じさせるための方法であって、 室温で金属溶液を作製する過程と、 前記金属溶液をターゲットソースの中に通す過程と、 前記ターゲットソースを高エネルギー源で照射して、デブリを含まず周りの部品にデブリによる損傷を与えない光放射を生じさせる過程とを含むことを特徴とする方法。
IPC (3件)：
H05G2/00 ,  H01L21/027 ,  H05H1/24
FI (3件)：
H05G1/00 K ,  H05H1/24 ,  H01L21/30 531S
Fターム (5件)：
4C092AA06 ,  4C092AA15 ,  4C092AB19 ,  4C092AB21 ,  5F046GC03
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)
引用文献：
出願人引用 (1件)
  • Liquid-jet target laser-plasma sources for EUV and X-ray lithography
審査官引用 (1件)
  • Liquid-jet target laser-plasma sources for EUV and X-ray lithography

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