特許
J-GLOBAL ID:200903096788562279

画像形成材料及び画像形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-268640
公開番号(公開出願番号):特開平9-171254
出願日: 1996年10月09日
公開日(公表日): 1997年06月30日
要約:
【要約】【課題】 赤外線感度、現像性及び保存性が改良された赤外線で画像露光が可能なポジ型の画像形成材料及びそれによる画像形成方法を提供する。【解決手段】 ?@支持体上に、(a)活性光線の照射により酸を発生し得る化合物、(b)酸で分解し得る結合を少なくとも1つ有する化合物及び(c)赤外線吸収剤を含有する感光層を有する画像形成材料。?A上記?@において(a)が有機ハロゲン化合物である。?B上記?@において(b)が-(CH2CH2O)n-基(nは2〜5の整数)を有する化合物である。?C上記?@において(b)が一般式(1)で表される化合物である。?D上記?@において(b)が一般式(1)で表される化合物である。?E上記?@〜?Dの画像形成材料に赤外線で画像露光した後、アルカリ性現像液で露光部を除去する工程を含む画像形成方法。【化29】
請求項(抜粋):
支持体上に、活性光線の照射により酸を発生し得る化合物、酸で分解し得る結合を少なくとも1つ有する化合物及び赤外線吸収剤を含有する感光層を有することを特徴とする画像形成材料。
IPC (5件):
G03F 7/039 501 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/004 505
FI (5件):
G03F 7/039 501 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 504 ,  G03F 7/004 505
引用特許:
審査官引用 (9件)
  • 特開昭63-003647
  • 化学増幅型レジスト組成物
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-096173   出願人:協和醗酵工業株式会社
  • 特開昭63-110445
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