特許
J-GLOBAL ID：200903096795215789

レジスト用重合体、レジスト材料及びパターン形成方法

発明者：
渡辺 武

渡辺 武 について

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西 恒寛

西 恒寛 について

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船津 顕之

船津 顕之 について

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吉原 隆夫

吉原 隆夫 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (3件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-286647
公開番号（公開出願番号）：特開2005-054070
出願日： 2003年08月05日
公開日（公表日）： 2005年03月03日
要約：
【解決手段】 酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂であって、下記一般式(1)〜(3)で示される繰り返し単位をそれぞれ一種以上含む重合体。 【化1】(R1、R2、R5はH又はCH3、R3、R4はHはOH、Xは下記一般式(X-1)〜(X-4)のいずれかで示されるビシクロ[2.2.1]ヘプタン骨格を有する3級exo-アルキル基。) 【化2】(R6は炭素数1〜10のアルキル基。)【効果】 本発明の重合体を用いて調製した本発明のレジスト材料は、高エネルギー線に感応し、解像度に優れているため、電子線や遠紫外線による超LSI製造用の微細加工に有用である。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂であって、下記一般式(1)〜(3)で示される繰り返し単位をそれぞれ一種以上含むことを特徴とする重合体。
IPC (3件)：
C08F220/18 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (3件)：
C08F220/18 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (27件)：
2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11R ,  4J100BC08P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12P ,  4J100BC53R ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (2件)

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