特許
J-GLOBAL ID：200903096799780103
スパッタリングターゲットとそれを用いたスパッタリング装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-262186
公開番号（公開出願番号）：特開2002-146523
出願日： 2001年08月30日
公開日（公表日）： 2002年05月22日
要約：
【要約】【課題】 ターゲット本体の非エロージョン領域やバッキングプレートなどからの再付着物の剥離、脱落を抑制する。これによって、再付着物の剥離、脱落に起因するダストの発生を低減する。【解決手段】 ターゲット本体1と、このターゲット本体1を支持するバッキングプレート2とを具備するスパッタリングターゲット3である。ターゲット本体1の非エロージョン領域の少なくとも一部には、PVD法またはCVD法により形成された再付着粒子剥離防止膜4が設けられている。再付着粒子剥離防止膜4は、バッキングプレートの露出表面に形成しても効果を発揮する。
請求項（抜粋）：
ターゲット本体と、前記ターゲット本体の非エロージョン領域の少なくとも一部に設けられ、PVD法またはCVD法により形成された再付着粒子剥離防止膜とを具備することを特徴とするスパッタリングターゲット。
IPC (3件)：
C23C 14/34
, H01L 21/285
, H01L 21/203
C23C 14/34 B
, H01L 21/285 S
, H01L 21/203 S
4K029DC07
, 4K029DC12
, 4M104BB01
, 4M104BB02
, 4M104BB04
, 4M104BB05
, 4M104BB06
, 4M104BB08
, 4M104BB13
, 4M104BB14
, 4M104BB16
, 4M104BB17
, 4M104BB18
, 4M104BB32
, 4M104BB36
, 4M104DD39
, 4M104DD40
, 4M104DD42
, 4M104HH20
, 5F103AA08
, 5F103BB22
, 5F103BB60
, 5F103DD28
, 5F103RR10
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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