特許
J-GLOBAL ID:200903096838622022
光触媒、光触媒形成用塗布液、及び光触媒の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
足立 勉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-292630
公開番号(公開出願番号):特開2008-104996
出願日: 2006年10月27日
公開日(公表日): 2008年05月08日
要約:
【課題】光触媒活性が高いとともに、紫外線照射の際に発生する特有の臭気を低減できる光触媒、光触媒形成用塗布液、及び光触媒の製造方法を提供すること。【解決手段】酸化チタンゾルと、Au、Pt、及びMnから成る群から選択される1以上の金属の塩とを含む光触媒形成用塗布液を調製する。次に、その光触媒形成用塗布液に紫外線を照射し、酸化チタンの表面に、還元された金属を析出させてから、基材上に塗布、乾燥することで、酸化チタンと、Au、Pt、及びMnから成る群から選択される1以上の金属成分とを含み、前記金属成分は、前記酸化チタン中に分散して存在する光触媒を製造する。【選択図】図2
請求項(抜粋):
酸化チタンと、
Au、Pt、及びMnから成る群から選択される1以上の金属成分と、を含み、
前記金属成分は、前記酸化チタン中に分散して存在することを特徴とする光触媒。
IPC (7件):
B01J 35/02
, B01J 23/52
, B01J 23/42
, B01J 37/16
, B01J 37/34
, C09D 1/00
, C09D 5/00
FI (7件):
B01J35/02 J
, B01J23/52 M
, B01J23/42 M
, B01J37/16
, B01J37/34
, C09D1/00
, C09D5/00 Z
Fターム (36件):
4G169AA02
, 4G169AA08
, 4G169BA04A
, 4G169BA04B
, 4G169BA48A
, 4G169BB02A
, 4G169BB02B
, 4G169BC33A
, 4G169BC33B
, 4G169BC62A
, 4G169BC75A
, 4G169BC75B
, 4G169CA10
, 4G169CA13
, 4G169CA17
, 4G169EC28
, 4G169FA01
, 4G169FB05
, 4G169FB14
, 4G169FB20
, 4G169FB30
, 4G169FB46
, 4G169HA13
, 4G169HB01
, 4G169HC29
, 4G169HE03
, 4G169HE12
, 4J038AA001
, 4J038HA062
, 4J038HA211
, 4J038KA02
, 4J038MA02
, 4J038NA17
, 4J038NA27
, 4J038PA18
, 4J038PC03
引用特許: