特許
J-GLOBAL ID:200903096838622022

光触媒、光触媒形成用塗布液、及び光触媒の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 足立 勉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-292630
公開番号(公開出願番号):特開2008-104996
出願日: 2006年10月27日
公開日(公表日): 2008年05月08日
要約:
【課題】光触媒活性が高いとともに、紫外線照射の際に発生する特有の臭気を低減できる光触媒、光触媒形成用塗布液、及び光触媒の製造方法を提供すること。【解決手段】酸化チタンゾルと、Au、Pt、及びMnから成る群から選択される1以上の金属の塩とを含む光触媒形成用塗布液を調製する。次に、その光触媒形成用塗布液に紫外線を照射し、酸化チタンの表面に、還元された金属を析出させてから、基材上に塗布、乾燥することで、酸化チタンと、Au、Pt、及びMnから成る群から選択される1以上の金属成分とを含み、前記金属成分は、前記酸化チタン中に分散して存在する光触媒を製造する。【選択図】図2
請求項(抜粋):
酸化チタンと、 Au、Pt、及びMnから成る群から選択される1以上の金属成分と、を含み、 前記金属成分は、前記酸化チタン中に分散して存在することを特徴とする光触媒。
IPC (7件):
B01J 35/02 ,  B01J 23/52 ,  B01J 23/42 ,  B01J 37/16 ,  B01J 37/34 ,  C09D 1/00 ,  C09D 5/00
FI (7件):
B01J35/02 J ,  B01J23/52 M ,  B01J23/42 M ,  B01J37/16 ,  B01J37/34 ,  C09D1/00 ,  C09D5/00 Z
Fターム (36件):
4G169AA02 ,  4G169AA08 ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA48A ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BC33A ,  4G169BC33B ,  4G169BC62A ,  4G169BC75A ,  4G169BC75B ,  4G169CA10 ,  4G169CA13 ,  4G169CA17 ,  4G169EC28 ,  4G169FA01 ,  4G169FB05 ,  4G169FB14 ,  4G169FB20 ,  4G169FB30 ,  4G169FB46 ,  4G169HA13 ,  4G169HB01 ,  4G169HC29 ,  4G169HE03 ,  4G169HE12 ,  4J038AA001 ,  4J038HA062 ,  4J038HA211 ,  4J038KA02 ,  4J038MA02 ,  4J038NA17 ,  4J038NA27 ,  4J038PA18 ,  4J038PC03
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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